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ITO透明导电薄膜制备工艺及机理的研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第1绪论第10-19页
    1.1 引言第10页
    1.2 透明导电薄膜的制备方法第10-11页
    1.3 ITO薄膜的晶体结构第11-12页
    1.4 ITO薄膜的光电性能第12-15页
        1.4.1 ITO薄膜的导电机理第12-13页
        1.4.2 ITO薄膜的电学性能第13-14页
        1.4.3 ITO薄膜的光学性能第14-15页
    1.5 国内外研究现状及存在问题第15-17页
    1.6 课题的研究目的及意义第17-19页
        1.6.1 研究目的第17-18页
        1.6.2 研究内容第18页
        1.6.3 本文创新点第18-19页
第2章 电子束蒸镀镀膜原理第19-28页
    2.1 概述第19-20页
    2.2 镀料的蒸发第20-24页
        2.2.1 饱和蒸汽压第20-21页
        2.2.2 蒸发离子的速度和能量第21-22页
        2.2.3 蒸发速率和沉积速率第22-24页
    2.3 电子束蒸镀机台简介第24-28页
        2.3.1 电子束蒸发源第24页
        2.3.2 电子束加热原理与特点第24-25页
        2.3.3 电子束蒸发源的形式第25-28页
第3章 ITO薄膜的制备及表征第28-38页
    3.1 实验装置简介第28页
    3.2 ITO薄膜的制备第28-29页
        3.2.1 ITO薄膜制备参数简介第28页
        3.2.2 ITO薄膜制备的工艺流程第28-29页
    3.3 试验样品的预处理第29-30页
    3.4 ITO薄膜的性能和结构特性第30-38页
        3.4.1 ITO薄膜的厚度第30-31页
        3.4.2 ITO薄膜的方阻测量第31-32页
        3.4.3 ITO薄膜Hall参量的测量第32-33页
        3.4.4 ITO薄膜透射率的测量第33-34页
        3.4.5 ITO薄膜XRD的测量第34-36页
        3.4.6 ITO薄膜SEM的测量第36-38页
第4章 工艺参数对ITO薄膜性能的影响第38-56页
    4.1 氧气流量对ITO薄膜性能的影响第38-44页
        4.1.1 氧气流量对薄膜电导率的影响第38-40页
        4.1.2 氧气流量对薄膜微观结构的影响第40-42页
        4.1.3 氧气流量对薄膜透射率的影响第42-44页
    4.2 退火温度对ITO薄膜性能的影响第44-51页
        4.2.1 退火温度对ITO薄膜载流子浓度的影响第45-46页
        4.2.2 退火温度对ITO薄膜电子迁移率的影响第46-48页
        4.2.3 退火温度对ITO薄膜电导率的影响第48-49页
        4.2.4 退火温度对ITO薄膜透射率的影响第49-51页
    4.3 退火时间对ITO薄膜性能的影响第51-56页
        4.3.1 退火时间对ITO薄膜电学性能的影响第51-53页
        4.3.2 退火时间对ITO薄膜光学性能的影响第53-56页
第5章 总结与展望第56-58页
参考文献第58-63页
致谢第63-64页
攻读学位期间取得的研究成果第64-66页
浙江师范大学学位论文诚信承诺书第66页

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