ITO透明导电薄膜制备工艺及机理的研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 透明导电薄膜的制备方法 | 第10-11页 |
| 1.3 ITO薄膜的晶体结构 | 第11-12页 |
| 1.4 ITO薄膜的光电性能 | 第12-15页 |
| 1.4.1 ITO薄膜的导电机理 | 第12-13页 |
| 1.4.2 ITO薄膜的电学性能 | 第13-14页 |
| 1.4.3 ITO薄膜的光学性能 | 第14-15页 |
| 1.5 国内外研究现状及存在问题 | 第15-17页 |
| 1.6 课题的研究目的及意义 | 第17-19页 |
| 1.6.1 研究目的 | 第17-18页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第18页 |
| 1.6.3 本文创新点 | 第18-19页 |
| 第2章 电子束蒸镀镀膜原理 | 第19-28页 |
| 2.1 概述 | 第19-20页 |
| 2.2 镀料的蒸发 | 第20-24页 |
| 2.2.1 饱和蒸汽压 | 第20-21页 |
| 2.2.2 蒸发离子的速度和能量 | 第21-22页 |
| 2.2.3 蒸发速率和沉积速率 | 第22-24页 |
| 2.3 电子束蒸镀机台简介 | 第24-28页 |
| 2.3.1 电子束蒸发源 | 第24页 |
| 2.3.2 电子束加热原理与特点 | 第24-25页 |
| 2.3.3 电子束蒸发源的形式 | 第25-28页 |
| 第3章 ITO薄膜的制备及表征 | 第28-38页 |
| 3.1 实验装置简介 | 第28页 |
| 3.2 ITO薄膜的制备 | 第28-29页 |
| 3.2.1 ITO薄膜制备参数简介 | 第28页 |
| 3.2.2 ITO薄膜制备的工艺流程 | 第28-29页 |
| 3.3 试验样品的预处理 | 第29-30页 |
| 3.4 ITO薄膜的性能和结构特性 | 第30-38页 |
| 3.4.1 ITO薄膜的厚度 | 第30-31页 |
| 3.4.2 ITO薄膜的方阻测量 | 第31-32页 |
| 3.4.3 ITO薄膜Hall参量的测量 | 第32-33页 |
| 3.4.4 ITO薄膜透射率的测量 | 第33-34页 |
| 3.4.5 ITO薄膜XRD的测量 | 第34-36页 |
| 3.4.6 ITO薄膜SEM的测量 | 第36-38页 |
| 第4章 工艺参数对ITO薄膜性能的影响 | 第38-56页 |
| 4.1 氧气流量对ITO薄膜性能的影响 | 第38-44页 |
| 4.1.1 氧气流量对薄膜电导率的影响 | 第38-40页 |
| 4.1.2 氧气流量对薄膜微观结构的影响 | 第40-42页 |
| 4.1.3 氧气流量对薄膜透射率的影响 | 第42-44页 |
| 4.2 退火温度对ITO薄膜性能的影响 | 第44-51页 |
| 4.2.1 退火温度对ITO薄膜载流子浓度的影响 | 第45-46页 |
| 4.2.2 退火温度对ITO薄膜电子迁移率的影响 | 第46-48页 |
| 4.2.3 退火温度对ITO薄膜电导率的影响 | 第48-49页 |
| 4.2.4 退火温度对ITO薄膜透射率的影响 | 第49-51页 |
| 4.3 退火时间对ITO薄膜性能的影响 | 第51-56页 |
| 4.3.1 退火时间对ITO薄膜电学性能的影响 | 第51-53页 |
| 4.3.2 退火时间对ITO薄膜光学性能的影响 | 第53-56页 |
| 第5章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第64-66页 |
| 浙江师范大学学位论文诚信承诺书 | 第66页 |
