高精度平面光学元件全局修形加工方法研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 论文选题背景 | 第8-10页 |
| 1.1.1 平面光学元件的应用与发展 | 第8页 |
| 1.1.2 空间反射镜表面改性技术 | 第8-10页 |
| 1.2 平面加工工艺及国内外研究现状 | 第10-15页 |
| 1.2.1 全局抛光加工方法 | 第10-12页 |
| 1.2.2 局部修形加工方法 | 第12-14页 |
| 1.2.3 全局修形加工方法 | 第14页 |
| 1.2.4 组合修形加工方法 | 第14-15页 |
| 1.3 课题来源、研究目标及主要内容 | 第15-16页 |
| 2 全局修形方法理论模型 | 第16-28页 |
| 2.1 论依据与方法原理 | 第16-18页 |
| 2.1.1 化学机械抛光材料去除机理 | 第16-17页 |
| 2.1.2 全局修形方法基本原理 | 第17-18页 |
| 2.1.3 全局修形方法的优势 | 第18页 |
| 2.2 材料去除率分布趋势预测模型 | 第18-25页 |
| 2.2.1 材料去除率分布理论依据 | 第18-19页 |
| 2.2.2 材料去除率分布趋势计算模型 | 第19-20页 |
| 2.2.3 接触压力分布模型 | 第20-24页 |
| 2.2.4 相对速度分布模型 | 第24-25页 |
| 2.3 材料去除率分布分析软件开发 | 第25-26页 |
| 2.3.1 常系数预测模型 | 第25-26页 |
| 2.3.2 修正系数预测模型 | 第26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-28页 |
| 3 材料去除率分布精确预测性探究 | 第28-38页 |
| 3.1 材料去除率分布精确预测的意义 | 第28页 |
| 3.2 材料去除率测量方法与设备 | 第28-34页 |
| 3.2.1 材料去除率测量原理与方法 | 第28-30页 |
| 3.2.2 工件的准备 | 第30-33页 |
| 3.2.3 试验设备与抛光流程 | 第33-34页 |
| 3.3 试验结果与讨论 | 第34-37页 |
| 3.3.1 硬垫试验结果 | 第34-36页 |
| 3.3.2 软垫试验结果 | 第36-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 4 全局修形加工方案设计与试验验证 | 第38-63页 |
| 4.1 全局修形加工方案设计 | 第38-39页 |
| 4.2 全局修形加工专用修形装置设计 | 第39-41页 |
| 4.2.1 修形装置功能需求 | 第39页 |
| 4.2.2 修形装置结构设计 | 第39-41页 |
| 4.2.3 全局修形加工系统 | 第41页 |
| 4.3 全局修形加工方案优化模型 | 第41-44页 |
| 4.3.1 数据处理方法 | 第41-42页 |
| 4.3.2 单目标优化模型 | 第42-43页 |
| 4.3.3 多目标优化模型 | 第43-44页 |
| 4.4 无摆动修形加工试验 | 第44-56页 |
| 4.4.1 试验材料及抛光参数 | 第44-45页 |
| 4.4.2 去除率分布特性选择 | 第45-49页 |
| 4.4.3 试验结果与讨论 | 第49-56页 |
| 4.5 加摆动修形加工试验 | 第56-61页 |
| 4.5.1 试验条件与抛光参数 | 第56-57页 |
| 4.5.2 试验结果与讨论 | 第57-61页 |
| 4.6 本章小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
