| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 课题研究背景 | 第11-14页 |
| 1.2.1 液晶光阀的结构与工作原理 | 第11-13页 |
| 1.2.2 光敏层的研究现状和发展态势 | 第13-14页 |
| 1.3 非晶硅和纳米硅材料概述 | 第14-16页 |
| 1.3.1 单晶硅(c-Si) | 第14-15页 |
| 1.3.2 非晶硅(a-Si) | 第15页 |
| 1.3.3 纳米硅(nc-Si)薄膜 | 第15-16页 |
| 1.3.4 带隙调控的应用 | 第16页 |
| 1.4 论文研究内容及结构安排 | 第16-19页 |
| 1.4.1 论文主要工作及技术路线 | 第16-17页 |
| 1.4.2 论文结构安排 | 第17-19页 |
| 第二章 薄膜的制备及表征方法 | 第19-31页 |
| 2.1 样品制备及生长机理 | 第19-24页 |
| 2.1.1 等离子体增强化学气相沉积装置 | 第19-21页 |
| 2.1.2 氢化纳米硅薄膜生长机理 | 第21-23页 |
| 2.1.3 样品制备 | 第23-24页 |
| 2.2 薄膜的性能表征方法 | 第24-30页 |
| 2.2.1 原子力显微镜 | 第24-25页 |
| 2.2.2 场发射扫描电镜(SEM) | 第25页 |
| 2.2.3 拉曼散射光谱 | 第25-26页 |
| 2.2.4 傅里叶红外光谱测试 | 第26-27页 |
| 2.2.5 X射线衍射光谱 | 第27-28页 |
| 2.2.6 紫外-可见透射光谱(UV-vis) | 第28-29页 |
| 2.2.7 电阻测试及电导率计算 | 第29-30页 |
| 2.3 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 电子束辐照a-Si:H薄膜的制备与研究 | 第31-43页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 样品制备与测试 | 第31-32页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第32-42页 |
| 3.3.1 AFM表面形貌分析 | 第32-33页 |
| 3.3.2 电子束辐照对a-Si:H薄膜微观结构的影响 | 第33-38页 |
| 3.3.2.1 拉曼光谱测试结果与分析 | 第33-35页 |
| 3.3.2.2 XRD光谱测试结果与分析 | 第35-37页 |
| 3.3.2.3 FTIR光谱测试结果与分析 | 第37-38页 |
| 3.3.3 电子束辐照对a-Si:H薄膜光学性能的影响 | 第38-40页 |
| 3.3.4 电子束辐照对a-Si:H薄膜电学性能的影响 | 第40-42页 |
| 3.4 本章总结 | 第42-43页 |
| 第四章 不同氢稀释纳米硅薄膜的制备及研究 | 第43-53页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 样品的制备与测试 | 第43-44页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第44-51页 |
| 4.3.1 高氢稀释对薄膜微观结构的影响 | 第44-49页 |
| 4.3.1.1 沉积速率 | 第44-45页 |
| 4.3.1.2 傅里叶红外光谱 | 第45-47页 |
| 4.3.1.3 拉曼光谱 | 第47-49页 |
| 4.3.2 高氢稀释对薄膜光学性能的影响 | 第49-50页 |
| 4.3.3 高氢稀释对薄膜电学性能的影响 | 第50-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 掺锗a-SiGe:H薄膜的制备与性能研究 | 第53-69页 |
| 5.1 引言 | 第53页 |
| 5.2 非晶硅锗薄膜的制备与生长机制 | 第53-55页 |
| 5.2.1 非晶硅锗薄膜的生长机制 | 第53-55页 |
| 5.2.2 非晶硅锗薄膜的制备 | 第55页 |
| 5.3 不同反应气体浓度对非晶硅锗薄膜的特性影响 | 第55-63页 |
| 5.3.1 薄膜的生长速率 | 第55-56页 |
| 5.3.2 薄膜的微观结构特性 | 第56-60页 |
| 5.3.2.1 表面形貌(AFM) | 第56-57页 |
| 5.3.2.2 Raman散射光谱 | 第57-58页 |
| 5.3.2.3 FTIR傅里叶红外光谱 | 第58-60页 |
| 5.3.3 电学特性 | 第60-61页 |
| 5.3.4 光学特性 | 第61-63页 |
| 5.4 液晶光阀光敏层渐变带隙的设计 | 第63-68页 |
| 5.4.1 渐变带隙的设计原理 | 第63-64页 |
| 5.4.2 渐变带隙制备 | 第64-65页 |
| 5.4.3 渐变带隙对光敏层的影响 | 第65-68页 |
| 5.4.3.1 SEM截面测试 | 第65-66页 |
| 5.4.3.2 叠层光学测试 | 第66-67页 |
| 5.4.3.3 叠层电学测试 | 第67-68页 |
| 5.5 本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 总结与展望 | 第69-71页 |
| 6.1 课题总结 | 第69-70页 |
| 6.2 课题展望 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第77-78页 |
