| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 引言 | 第9-17页 |
| 1.1 立题背景 | 第9页 |
| 1.2 高熵合金的概念 | 第9-10页 |
| 1.3 高熵合金的四个核心效应、特点及应用领域 | 第10-12页 |
| 1.3.1 四个核心效应 | 第10-11页 |
| 1.3.2 性能特点 | 第11-12页 |
| 1.3.3 应用领域 | 第12页 |
| 1.4 高熵合金薄膜的制备技术和类型 | 第12-14页 |
| 1.4.1 高熵合金的制备技术 | 第12-13页 |
| 1.4.2 高熵合金薄膜的分类 | 第13-14页 |
| 1.5 多主元高熵合金薄膜的国内外研究现状 | 第14-15页 |
| 1.6 本论文研究意义及内容 | 第15-17页 |
| 2 实验方法及表征 | 第17-23页 |
| 2.1 磁控溅射设备简介 | 第17-18页 |
| 2.2 合金元素的选取 | 第18-19页 |
| 2.3 薄膜的制备工艺 | 第19-21页 |
| 2.3.1 衬底选择及预处理 | 第19页 |
| 2.3.2 靶材选择 | 第19-20页 |
| 2.3.3 薄膜的制备工艺 | 第20-21页 |
| 2.4 薄膜的表征方法 | 第21-23页 |
| 2.4.1 薄膜厚度表征 | 第21页 |
| 2.4.2 微观结构与形貌表征 | 第21页 |
| 2.4.3 显微硬度及弹性模量表征 | 第21页 |
| 2.4.4 电化学性能表征 | 第21-23页 |
| 3 碳靶功率对多元(AlCrWTaTiNb)C_xN_y复合薄膜的结构及性能影响 | 第23-33页 |
| 3.1 碳靶功率对化学成分的影响 | 第23-24页 |
| 3.2 碳靶功率对沉积速率的影响 | 第24-25页 |
| 3.3 碳靶功率对微观结构的影响 | 第25-29页 |
| 3.4 碳靶功率对机械性能的影响 | 第29-31页 |
| 3.5 碳靶功率对电化学性能的影响 | 第31-32页 |
| 3.6 本章小结 | 第32-33页 |
| 4 基底温度对多组元(AlCrWTaTiNb)C_xN_y薄膜的微观结构及性能的影响 | 第33-40页 |
| 4.1 基底温度对化学成分的影响 | 第33-34页 |
| 4.2 基底温度对晶体结构的影响 | 第34-36页 |
| 4.3 基底温度对表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| 4.4 基底温度对机械性能的影响 | 第37-38页 |
| 4.5 本章小结 | 第38-40页 |
| 5 氮气流量对多主元(AlCrWTaTiNb)C_xN_y薄膜的微观结构及性能的影响 | 第40-46页 |
| 5.1 氮气流量对化学成分的影响 | 第40页 |
| 5.2 氮气流量对沉积速率的影响 | 第40-42页 |
| 5.3 氮气流量对晶体结构的影响 | 第42-43页 |
| 5.4 氮气流量对表面形貌的影响 | 第43-44页 |
| 5.5 氮气流量对机械性能的影响 | 第44-45页 |
| 5.6 本章小结 | 第45-46页 |
| 6 (AlCrWTaTiNb)C_xN_y、(AlCrWTaTiNb)N_x、(AlCrWTaTiNb)C_x三种化合物薄膜的微观机构及性能比较 | 第46-53页 |
| 6.1 化学成分 | 第46页 |
| 6.2 晶体结构 | 第46-48页 |
| 6.3 表面形貌 | 第48-49页 |
| 6.4 机械性能 | 第49-51页 |
| 6.5 电化学性能 | 第51-52页 |
| 6.6 本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
