摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-25页 |
1.1 透明导电氧化物薄膜概述 | 第12页 |
1.2 FTO薄膜概述 | 第12-17页 |
1.2.1 FTO薄膜的性质 | 第12-14页 |
1.2.2 FTO薄膜的导电机理 | 第14页 |
1.2.3 FTO薄膜的应用 | 第14-17页 |
1.3 透明导电薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
1.3.1 化学气相沉积法 | 第17页 |
1.3.2 磁控溅射法 | 第17-18页 |
1.3.3 溶胶-凝胶法 | 第18页 |
1.3.4 喷涂热分解法 | 第18-19页 |
1.3.5 脉冲激光沉积法 | 第19页 |
1.4 FTO薄膜研究现状 | 第19-22页 |
1.4.1 薄膜制备技术的改良 | 第19-20页 |
1.4.2 薄膜的退火处理 | 第20页 |
1.4.3 多层复合薄膜设计 | 第20-21页 |
1.4.4 薄膜表面的织构化处理 | 第21页 |
1.4.5 多种技术的综合运用 | 第21-22页 |
1.5 激光退火简介 | 第22-23页 |
1.5.1 激光退火 | 第22-23页 |
1.5.2 薄膜激光表面处理 | 第23页 |
1.6 本文的研究思路 | 第23-25页 |
第二章 实验材料、设备及表征 | 第25-33页 |
2.1 实验材料及仪器 | 第25-28页 |
2.1.1 实验材料 | 第25页 |
2.1.2 实验仪器 | 第25-28页 |
2.2 表征与检测 | 第28-33页 |
2.2.1 扫描电子显微镜 | 第28页 |
2.2.2 X射线衍射仪 | 第28-30页 |
2.2.3 紫外-可见分光光度计 | 第30页 |
2.2.4 四探针测试仪 | 第30-31页 |
2.2.5 薄膜性能衡量指标 | 第31-33页 |
第三章 贴膜条件下FTO薄膜激光表面处理 | 第33-47页 |
3.1 引言 | 第33页 |
3.2 实验部分 | 第33-34页 |
3.2.1 实验预处理 | 第33页 |
3.2.2 PET贴膜条件下FTO薄膜的激光表面处理 | 第33-34页 |
3.3 PET贴膜条件下激光能量密度对FTO薄膜的影响 | 第34-40页 |
3.3.1 表面形貌分析 | 第34-36页 |
3.3.2 结构分析 | 第36-37页 |
3.3.3 光学性能分析 | 第37-38页 |
3.3.4 电学性能分析 | 第38-39页 |
3.3.5 综合光电性能分析 | 第39-40页 |
3.4 PET贴膜条件下扫描速度对薄膜性能的影响 | 第40-44页 |
3.4.1 表面形貌分析 | 第40-41页 |
3.4.2 结构分析 | 第41-42页 |
3.4.3 光学性能分析 | 第42-43页 |
3.4.4 电学性能分析 | 第43-44页 |
3.4.5 综合光电性能分析 | 第44页 |
3.5 PET贴膜条件下激光作用机理 | 第44-46页 |
3.6 本章小结 | 第46-47页 |
第四章 Ti/FTO复合薄膜激光表面处理 | 第47-64页 |
4.1 引言 | 第47页 |
4.2 实验部分 | 第47-48页 |
4.3 Ti层厚度对Ti/FTO复合薄膜性能的影响 | 第48-51页 |
4.3.1 电学性能分析 | 第48-49页 |
4.3.2 光学性能分析 | 第49-50页 |
4.3.3 综合光电性能分析 | 第50-51页 |
4.4 激光能量密度对Ti/FTO复合薄膜性能影响 | 第51-57页 |
4.4.1 表面形貌分析 | 第51-53页 |
4.4.2 结构分析 | 第53-54页 |
4.4.3 光学性能分析 | 第54-55页 |
4.4.4 电学性能分析 | 第55-56页 |
4.4.5 综合光电性能分析 | 第56-57页 |
4.5 线间距对Ti/FTO复合薄膜性能影响 | 第57-62页 |
4.5.1 表面形貌分析 | 第57-58页 |
4.5.2 结构分析 | 第58-59页 |
4.5.3 光学性能分析 | 第59-61页 |
4.5.4 电学性能分析 | 第61页 |
4.5.5 综合光电性能分析 | 第61-62页 |
4.6 小结 | 第62-64页 |
第五章 总结和展望 | 第64-67页 |
5.1 工作总结 | 第64-65页 |
5.2 工作创新点 | 第65页 |
5.3 工作展望 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-73页 |
致谢 | 第73-74页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文和专利目录 | 第74-75页 |
攻读硕士学位期间参与科研项目 | 第75页 |