| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪言 | 第9-17页 |
| 1.1 工业CT的组成 | 第9-10页 |
| 1.2 工业CT发展历程 | 第10-13页 |
| 1.3 工业CT系统工作原理 | 第13-14页 |
| 1.4 X射线硬化 | 第14-15页 |
| 1.5 本文的内容安排 | 第15-17页 |
| 第二章 X射线与X射线管 | 第17-25页 |
| 2.1 X射线 | 第17-21页 |
| 2.1.1 X射线的性质 | 第17-18页 |
| 2.1.2 X射线与物质相互作用 | 第18-21页 |
| 2.2 X射线管 | 第21-24页 |
| 2.2.1 X射线管的工作原理及结构 | 第21页 |
| 2.2.2 固定阳极X射线管 | 第21-24页 |
| 2.3 本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 X射线管出射能谱测量 | 第25-32页 |
| 3.1 X射线管能谱测量 | 第25-30页 |
| 3.1.1 实验设置 | 第25-26页 |
| 3.1.2 X射线管原始谱测量 | 第26-27页 |
| 3.1.3 X射线管初始透射谱 | 第27-29页 |
| 3.1.4 滤波片对X射线能谱的影响 | 第29-30页 |
| 3.2 本章小结 | 第30-32页 |
| 第四章 锥束工业CT射束硬化校正 | 第32-46页 |
| 4.1 X射线束硬化 | 第32-33页 |
| 4.1.1 射束硬化现象 | 第32页 |
| 4.1.2 射线硬化校正原理分析 | 第32-33页 |
| 4.2 射束硬化校正的方法 | 第33-35页 |
| 4.2.1 多项式拟合法 | 第34页 |
| 4.2.2 蒙特卡罗校正方法 | 第34页 |
| 4.2.3 基于实验能谱和蒙特卡罗模拟的多项式拟合硬化校正方法 | 第34-35页 |
| 4.3 实验 | 第35-44页 |
| 4.3.1 X射线管初始能谱测量 | 第35页 |
| 4.3.2 MCNP模拟计算 | 第35-36页 |
| 4.3.3 校正公式计算 | 第36-37页 |
| 4.3.4 滤波片硬化校正方法 | 第37-38页 |
| 4.3.5 多项式拟合硬化校正结果 | 第38-43页 |
| 4.3.6 滤波片法硬化校正结果 | 第43-44页 |
| 4.4 校正结果及对比 | 第44页 |
| 4.5 本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 工作总结与展望 | 第46-47页 |
| 5.1 工作总结 | 第46页 |
| 5.2 工作展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 攻读硕士期间研究成果 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |