| 致谢 | 第5-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 符号说明 | 第13-16页 |
| 1 绪论 | 第16-44页 |
| 1.1 热喷涂技术的分类和发展历程 | 第16-20页 |
| 1.2 等离子体喷涂技术组成和技术难点 | 第20-23页 |
| 1.3 等离子体射流的研究概述 | 第23-30页 |
| 1.4 颗粒多相流的研究概述 | 第30-38页 |
| 1.5 等离子体喷涂的参数化研究 | 第38-41页 |
| 1.6 研究目标和创新点 | 第41-42页 |
| 1.7 本文结构 | 第42-44页 |
| 2 等离子体喷涂的流场模型 | 第44-53页 |
| 2.1 等离子体流场的产生 | 第44-45页 |
| 2.2 等离子体流场的控制方程 | 第45-47页 |
| 2.3 化学反应 | 第47-48页 |
| 2.4 湍流模型 | 第48-51页 |
| 2.5 边界条件 | 第51-52页 |
| 2.6 本章小结 | 第52-53页 |
| 3 颗粒模型 | 第53-73页 |
| 3.1 多相流模拟方法 | 第53-54页 |
| 3.2 颗粒的计算模型 | 第54-68页 |
| 3.2.1 颗粒的受力模型 | 第54-59页 |
| 3.2.2 颗粒的传热模型 | 第59-63页 |
| 3.2.3 颗粒蒸发模型 | 第63-64页 |
| 3.2.4 悬浮液滴的雾化模型 | 第64-67页 |
| 3.2.5 悬浮液滴的碰撞模型 | 第67-68页 |
| 3.3 颗粒入射对等离子体射流的影响 | 第68-69页 |
| 3.4 多个颗粒生成的随机分布方案 | 第69-72页 |
| 3.5 本章小结 | 第72-73页 |
| 4 数值离散方法 | 第73-78页 |
| 4.1 等离子体流场控制方程的离散 | 第73-75页 |
| 4.2 颗粒相的处理和数值计算格式 | 第75-77页 |
| 4.3 本章小结 | 第77-78页 |
| 5 流场结果及单颗粒行为的研究 | 第78-94页 |
| 5.1 参数设置 | 第78-85页 |
| 5.1.1 悬浮等离子体喷涂流场参数设置 | 第78-79页 |
| 5.1.2 流场验证 | 第79-81页 |
| 5.1.3 其他流场结果 | 第81-85页 |
| 5.2 颗粒的受力分析和运动过程 | 第85-89页 |
| 5.3 颗粒的传热和相变过程 | 第89-91页 |
| 5.4 Stokes数与颗粒粒径的关系 | 第91-93页 |
| 5.5 本章小结 | 第93-94页 |
| 6 多颗粒行为的研究 | 第94-114页 |
| 6.1 微纳米颗粒运动、分布和传热的不同特点 | 第94-99页 |
| 6.2 颗粒入射对流场的影响 | 第99-105页 |
| 6.3 颗粒之间的碰撞研究 | 第105-110页 |
| 6.4 湍流扩散对多颗粒分布的影响 | 第110-113页 |
| 6.5 本章小结 | 第113-114页 |
| 7 喷涂过程参数研究 | 第114-120页 |
| 7.1 功率、气体组分对流场的影响 | 第114-116页 |
| 7.2 喷涂距离和基板尺寸对颗粒沉积的影响 | 第116-119页 |
| 7.3 本章小结 | 第119-120页 |
| 8 雾化参数研究 | 第120-132页 |
| 8.1 雾化入射与粉体入射对颗粒传热过程的影响 | 第120-125页 |
| 8.2 液滴和聚合颗粒尺寸对纳米颗粒释放位置的影响 | 第125-128页 |
| 8.3 入射位置、速度和入射角度对纳米颗粒释放的影响 | 第128-131页 |
| 8.4 本章小结 | 第131-132页 |
| 9 总结与展望 | 第132-135页 |
| 9.1 全文总结 | 第132-133页 |
| 9.2 工作展望 | 第133-135页 |
| 参考文献 | 第135-153页 |
| 附录 | 第153-154页 |
| 攻读博士学位期间主要研究成果 | 第154页 |