激光尾场加速电子的密度梯度注入的解析处理
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 激光尾场加速电子概述 | 第11-12页 |
| 1.2 尾场加速电子的各种机制 | 第12-16页 |
| 1.2.1 激光尾场加速电子中各种注入机制 | 第12-14页 |
| 1.2.2 激光尾场加速电子器的加速过程 | 第14-16页 |
| 1.3 论文选题背景及内容安排 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-19页 |
| 第2章 密度梯度注入的进展 | 第19-27页 |
| 2.1 密度梯度注入机制的提出 | 第19页 |
| 2.2 密度梯度注入的进展 | 第19-24页 |
| 2.2.1 密度梯度注入的理论与模拟 | 第20-22页 |
| 2.2.2 密度梯度注入的实验进展 | 第22-24页 |
| 2.3 密度梯度注入的前景 | 第24页 |
| 参考文献 | 第24-27页 |
| 第3章 密度梯度注入的理论分析 | 第27-35页 |
| 3.1 密度梯度区域电子注入阈值的解析讨论 | 第27-29页 |
| 3.2 密度梯度区域的注入电子动力学分析 | 第29-34页 |
| 3.2.1 密度梯度区域的电场分析 | 第29-30页 |
| 3.2.2 背景电子注入的动力学过程 | 第30-32页 |
| 3.2.3 注入电子在加速区域的持续加速 | 第32-33页 |
| 3.2.4 密度梯度区域非线性等离子体波处理 | 第33-34页 |
| 3.3 本章小结 | 第34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 第4章 粒子网格模拟与验证 | 第35-41页 |
| 4.1 注入电子的两种后续加速 | 第35-38页 |
| 4.1.1 激光强度低时的密度梯度注入 | 第35-37页 |
| 4.1.2 a_0=1时两种密度梯度注入电子 | 第37-38页 |
| 4.2 模拟中其他结果介绍 | 第38-39页 |
| 4.3 本章小结 | 第39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 全文总结及展望 | 第41-43页 |
| 附录 VORPAL模拟激光等离子体的部分参数 | 第43-45页 |
| 致谢 | 第45-47页 |
| 在读期间参加的研究课题及取得的学术成果 | 第47页 |
