光透明薄膜天线技术的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第8-11页 |
| 1.2 本章的主要工作及内容 | 第11-13页 |
| 第二章 透明薄膜的基本特性 | 第13-29页 |
| 2.1 ITO薄膜天线的制备方法 | 第13-17页 |
| 2.1.1 ITO粉末的制备 | 第13-14页 |
| 2.1.2 ITO制靶工艺 | 第14页 |
| 2.1.3 ITO薄膜的制备 | 第14-16页 |
| 2.1.4 ITO薄膜天线的制备 | 第16-17页 |
| 2.2 理论分析 | 第17-22页 |
| 2.3 薄膜性能的测量 | 第22-26页 |
| 2.3.1 薄膜厚度测量 | 第22页 |
| 2.3.2 薄膜电学性能测量 | 第22-24页 |
| 2.3.3 薄膜光学性能测量 | 第24-26页 |
| 2.4 多层薄膜 | 第26-29页 |
| 2.4.1 单层结构的光透明薄膜 | 第26-28页 |
| 2.4.2 多层结构的光透明薄膜 | 第28-29页 |
| 第三章 光透明薄膜天线类型 | 第29-53页 |
| 3.1 天线的基本参数 | 第29-31页 |
| 3.2 趋肤效应和表面阻抗 | 第31-34页 |
| 3.2.1 有限厚度的表面阻抗计算公式 | 第33-34页 |
| 3.3 光透明缝隙耦合微带天线 | 第34-42页 |
| 3.3.1 微带天线的辐射原理 | 第34-36页 |
| 3.3.2 微带天线的表面波效应 | 第36-37页 |
| 3.3.3 微带天线的优缺点 | 第37-38页 |
| 3.3.4 光透明缝隙耦合微带天线仿真 | 第38-42页 |
| 3.4 光透明超宽带单极子天线 | 第42-46页 |
| 3.4.1 光透明超宽带单极子天线仿真 | 第44-46页 |
| 3.5 光透明环天线 | 第46-53页 |
| 3.5.1 光透明近场RFID光透明环天线仿真 | 第50-53页 |
| 第四章 光透明薄膜天线特性研究 | 第53-71页 |
| 4.1 光透明天线馈电方式研究 | 第53-61页 |
| 4.1.1 非接触式馈电 | 第53页 |
| 4.1.2 接触式馈电 | 第53-56页 |
| 4.1.3 电子电器用胶粘剂 | 第56-61页 |
| 4.2 提高光透明薄膜天线的效率 | 第61-71页 |
| 4.2.1 缝隙耦合微带天线提高效率的方法 | 第61-64页 |
| 4.2.2 超宽带单极子提高效率的方法 | 第64-66页 |
| 4.2.3 多层薄膜与单层薄膜天线特性 | 第66-71页 |
| 第五章 总结与下一阶段的研究方向 | 第71-73页 |
| 5.1 总结 | 第71页 |
| 5.2 技术创新性 | 第71页 |
| 5.3 未来工作 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第77页 |
