| 中文摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 中文文摘 | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| 第一节 引言 | 第8页 |
| 第二节 课题研究背景 | 第8-12页 |
| 2.1 磁学发展概述 | 第8-9页 |
| 2.2 软磁材料的发展现状 | 第9-11页 |
| 2.3 软磁材料的发展趋势 | 第11-12页 |
| 2.4 高频软磁薄膜的应用 | 第12页 |
| 第三节 基础理论 | 第12-18页 |
| 3.1 磁性材料中的基本现象及其能量表述 | 第12-15页 |
| 3.2 磁性材料的静态磁参数 | 第15-16页 |
| 3.3 磁性材料的磁谱及损耗机制 | 第16-18页 |
| 第四节 本课题研究意义及研究内容 | 第18-22页 |
| 4.1 课题研究意义 | 第18-20页 |
| 4.2 本论文研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 样品的制备及其性能特性 | 第22-28页 |
| 第一节 实验样品的制备和实验基本流程(如图2-1所示) | 第22-24页 |
| 1.1 半金属HEUSLER合金靶材的制备 | 第22-23页 |
| 1.2 半金属HEUSLER合金薄膜的制备 | 第23-24页 |
| 第二节 薄膜的微结构和性能表征 | 第24-28页 |
| 2.1 微结构分析--X射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
| 2.2 薄膜静态磁性测量---VERSALAB综合物理测试系统 | 第25-26页 |
| 2.3 场发射电子扫描显微镜(FE-TEM)及X射线能量散射能谱(EDS) | 第26-27页 |
| 2.4 微波磁导率的测量-矢量网络分析仪(NWA) | 第27-28页 |
| 第三章 倾斜溅射制备CO_2FESI合金薄膜及其微波铁磁性能 | 第28-38页 |
| 第一节 引言 | 第28-29页 |
| 第二节 实验过程 | 第29-30页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第30-35页 |
| 3.1 纳米晶CO_2FESI薄膜的软磁性能 | 第30页 |
| 3.2 磁性能对样品位置的依赖关系 | 第30-32页 |
| 3.3 CO_2FESI薄膜面内单轴各向异性的来源 | 第32-33页 |
| 3.4 溅射功率对薄膜微波铁磁性能的影响 | 第33-35页 |
| 第四节 本章小结 | 第35-38页 |
| 第四章 (CO_2FESI)_(1-X)(AL_2O_3)_x薄膜的制备及其高频铁磁性能 | 第38-42页 |
| 第一节 引言 | 第38页 |
| 第二节 实验过程 | 第38-39页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第39-41页 |
| 第四节 本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 四元半金属HEUSLER合金CO_2FEAL_(0.3)SI_(0.7)的高频铁磁性能 | 第42-48页 |
| 第一节 引言 | 第42-43页 |
| 第二节 实验过程 | 第43页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第43-47页 |
| 3.1 薄膜磁性能对样品位置的依赖关系 | 第43-46页 |
| 3.2 缓冲层CR对CO_2FEAL_(0.3)SI_(0.7)合金薄膜磁性能的影响 | 第46-47页 |
| 第四节 本章小结 | 第47-48页 |
| 第六章 结论 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-58页 |
| 攻读学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-62页 |
| 个人简历 | 第62-64页 |
