| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 碳化硼概述 | 第11-14页 |
| 1.2 碳化硼薄膜的研究背景 | 第14页 |
| 1.3 碳化硼薄膜的研究现状 | 第14-17页 |
| 1.3.1 碳化硼薄膜的制备技术 | 第14-16页 |
| 1.3.2 耐磨减摩碳化硼薄膜研究中存在的问题 | 第16-17页 |
| 1.4 磁控溅射沉积技术 | 第17-21页 |
| 1.4.1 溅射原理 | 第17-18页 |
| 1.4.2 磁控溅射技术 | 第18-19页 |
| 1.4.3 非平衡直流磁控溅射 | 第19-21页 |
| 1.5 碳化硼薄膜的结构和性能表征 | 第21-23页 |
| 1.5.1 扫描电子显微分析 | 第21页 |
| 1.5.2 透射电子显微分析 | 第21-22页 |
| 1.5.3 原子力显微术 | 第22页 |
| 1.5.4 X射线衍射分析 | 第22页 |
| 1.5.5 拉曼光谱分析 | 第22页 |
| 1.5.6 X射线光电子能谱分析 | 第22-23页 |
| 1.5.7 摩擦磨损试验测试 | 第23页 |
| 1.6 本课题研究的意义和主要内容 | 第23-27页 |
| 2 偏压对碳化硼薄膜结构和性能的影响 | 第27-35页 |
| 2.1 引言 | 第27页 |
| 2.2 实验 | 第27-28页 |
| 2.2.1 薄膜的制备 | 第27页 |
| 2.2.2 薄膜的表征 | 第27-28页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第28-34页 |
| 2.3.1 薄膜的微观形貌 | 第28-29页 |
| 2.3.2 薄膜的微观结构 | 第29-31页 |
| 2.3.3 薄膜的机械性能 | 第31-32页 |
| 2.3.5 薄膜的摩擦学性能 | 第32-34页 |
| 2.4 小结 | 第34-35页 |
| 3 石墨靶电流对碳化硼薄膜微观结构和性能的影响 | 第35-45页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 实验 | 第35-36页 |
| 3.2.1 薄膜的制备 | 第35页 |
| 3.2.2 薄膜的表征 | 第35-36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-43页 |
| 3.3.1 薄膜的微观形貌 | 第36-37页 |
| 3.3.2 薄膜的微观结构 | 第37-38页 |
| 3.3.3 薄膜的机械性能 | 第38-40页 |
| 3.3.4 薄膜的摩擦学性能 | 第40-43页 |
| 3.4 小结 | 第43-45页 |
| 4 BCx/a-C薄膜的制备及性能研究 | 第45-58页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 实验 | 第45-46页 |
| 4.2.1 薄膜的制备 | 第45-46页 |
| 4.2.2 薄膜的表征 | 第46页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第46-57页 |
| 4.3.1 薄膜的微观形貌 | 第46页 |
| 4.3.2 薄膜的微观结构 | 第46-49页 |
| 4.3.3 薄膜的机械性能 | 第49-51页 |
| 4.3.4 薄膜的摩擦学性能 | 第51-54页 |
| 4.3.5 薄膜的热稳定性 | 第54-55页 |
| 4.3.6 薄膜的启停可靠性 | 第55-57页 |
| 4.4 小结 | 第57-58页 |
| 5 BCx/a-C薄膜和Cr/a-C薄膜的对比研究 | 第58-67页 |
| 5.1 引言 | 第58页 |
| 5.2 实验 | 第58-59页 |
| 5.2.1 薄膜的制备 | 第58页 |
| 5.2.2 薄膜的表征 | 第58-59页 |
| 5.3 结果和讨论 | 第59-66页 |
| 5.3.1 薄膜的微观结构 | 第59-60页 |
| 5.3.2 薄膜的机械性能 | 第60-61页 |
| 5.3.3 常温下薄膜的摩擦学性能 | 第61-64页 |
| 5.3.4 高温下薄膜的摩擦学性能 | 第64-66页 |
| 5.4 小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第74页 |