| 摘要 | 第8-12页 |
| Abstract | 第12-16页 |
| 第一章 绪论 | 第17-67页 |
| 1.1 引言 | 第17-19页 |
| 1.2 质谱仪的结构与原理 | 第19-37页 |
| 1.2.1 离子源 | 第21-27页 |
| 1.2.1.1 电子轰击电离离子源 | 第21-23页 |
| 1.2.1.2 大气压化学电离离子源 | 第23-24页 |
| 1.2.1.3 电喷雾电离离子源 | 第24-27页 |
| 1.2.2 离子传输装置 | 第27-32页 |
| 1.2.2.1 静电离子透镜 | 第27-28页 |
| 1.2.2.2 多级杆离子导引 | 第28-32页 |
| 1.2.3 质量分析器 | 第32-36页 |
| 1.2.3.1 磁场质量分析器 | 第32-33页 |
| 1.2.3.2 飞行时间质量分析器 | 第33-34页 |
| 1.2.3.3 四级杆质量分析器 | 第34-35页 |
| 1.2.3.4 离子阱质量分析器 | 第35页 |
| 1.2.3.5 傅立叶变换离子回旋共振质量分析器 | 第35-36页 |
| 1.2.4 离子检测器 | 第36页 |
| 1.2.5 质谱信息记录与处理系统 | 第36页 |
| 1.2.6 真空系统 | 第36-37页 |
| 1.3 质谱仪器发展现状及发展趋势 | 第37-39页 |
| 1.4 离子阱质量分析器的工作原理和研究成果 | 第39-49页 |
| 1.4.1 三维离子阱质量分析器 | 第39-44页 |
| 1.4.2 线性离子阱质量分析器 | 第44-47页 |
| 1.4.3 电极结构简化的离子阱质量分析器 | 第47-49页 |
| 1.5 本文的主要研究内容、创新点及意义 | 第49-51页 |
| 1.6 参考文献 | 第51-67页 |
| 第二章 印刷线路板(PCB)阵列离子阱质谱的研究 | 第67-89页 |
| 2.1 引言 | 第67-71页 |
| 2.2 PCB阵列离子阱质量分析器的结构 | 第71-72页 |
| 2.3 PCB阵列离子阱质量分析器的工作方式 | 第72-73页 |
| 2.3.1 交流信号工作方式 | 第72-73页 |
| 2.3.2 直流信号工作方式 | 第73页 |
| 2.4 PCB阵列离子阱质量分析器的电场分析 | 第73-74页 |
| 2.5 仪器系统设计 | 第74-75页 |
| 2.6 实验过程中的时序控制 | 第75-76页 |
| 2.7 实验结果及讨论 | 第76-85页 |
| 2.7.1 实验样品 | 第76页 |
| 2.7.2 离子动能对质谱峰强度的影响 | 第76-77页 |
| 2.7.3 z轴直流电位对质谱图强度和半峰宽的影响 | 第77-78页 |
| 2.7.4 射频电源扫速对离子阱质谱分辩率的影响 | 第78-79页 |
| 2.7.5 离子质量性隔离 | 第79-81页 |
| 2.7.6 离子质量性激发 | 第81-82页 |
| 2.7.7 碰撞诱导解离 | 第82-83页 |
| 2.7.8 离子测定效率η定量计算 | 第83-85页 |
| 2.8 本章小结 | 第85-86页 |
| 2.9 参考文献 | 第86-89页 |
| 第三章 陶瓷电极阵列离子阱质量分析器的研究 | 第89-115页 |
| 3.1 引言 | 第89-90页 |
| 3.2 陶瓷电极阵列离子阱质量分析器的设计 | 第90-96页 |
| 3.2.1 陶瓷电极阵列离子阱质量分析器的设计 | 第90-93页 |
| 3.2.2 陶瓷电极阵列离子阱质量分析器的结构 | 第93-94页 |
| 3.2.3 陶瓷电极阵列离子阱质量分析器的工作方式 | 第94-96页 |
| 3.2.3.1 陶瓷电极阵列离子阱质量分析器的射频电压工作方式 | 第94-95页 |
| 3.2.3.2 陶瓷电极阵列离子阱质量分析器的直流电压工作方式 | 第95-96页 |
| 3.3 陶瓷电极阵列离子阱质量分析器的电场分布计算 | 第96-97页 |
| 3.4 仪器系统结构 | 第97-100页 |
| 3.5 实验结果及讨论 | 第100-111页 |
| 3.5.1 实验样品 | 第100页 |
| 3.5.2 双通道电喷雾电离源的信号干扰测试 | 第100-101页 |
| 3.5.3 相同样品的多通道同步分析 | 第101-103页 |
| 3.5.4 不同样品的多通道同步分析 | 第103-104页 |
| 3.5.5 质量分辨率 | 第104-105页 |
| 3.5.6 串级质谱分析 | 第105-107页 |
| 3.5.7 不同通道之间的离子运动行为的研究 | 第107-111页 |
| 3.5.7.1 阵列离子阱外部的离子运动行为研究 | 第107-108页 |
| 3.5.7.2 单个离子在不同阵列离子阱质量分析通道内的行为 | 第108页 |
| 3.5.7.3 不同离子在不同阵列离子阱质量分析通道内的行为 | 第108-111页 |
| 3.6 本章小结 | 第111-112页 |
| 3.7 参考文献 | 第112-115页 |
| 第四章 三角形电极离子阱质谱仪的研究 | 第115-130页 |
| 4.1 引言 | 第115-117页 |
| 4.2 三角形电极质量分析器的设计与制作 | 第117-119页 |
| 4.3 实验条件 | 第119-121页 |
| 4.3.1 实验试剂 | 第119页 |
| 4.3.2 实验装置 | 第119-120页 |
| 4.3.3 电压信号施加方式 | 第120-121页 |
| 4.3.3.1 射频电压施加方式 | 第120-121页 |
| 4.3.3.2 直流电压施加方式 | 第121页 |
| 4.4 实验过程的时序控制 | 第121-122页 |
| 4.5 实验结果及讨论 | 第122-126页 |
| 4.5.1 质量分辨率 | 第122-123页 |
| 4.5.2 离子质量选择性隔离 | 第123-124页 |
| 4.5.3 离子质量选择性激发 | 第124-125页 |
| 4.5.4 串级质谱分析 | 第125-126页 |
| 4.6 本章小结 | 第126-127页 |
| 4.7 参考文献 | 第127-130页 |
| 第五章 三角形电极离子阱和五边形电极离子阱的模拟研究 | 第130-143页 |
| 5.1 引言 | 第130-131页 |
| 5.2 不同集合尺寸的三角形电极离子阱的理论研究 | 第131-135页 |
| 5.2.1 三角形电极离子阱模拟的计算机建模 | 第131-132页 |
| 5.2.2 几何尺寸和电场分布的关系 | 第132-133页 |
| 5.2.3 质量分辨率的理论模拟 | 第133-135页 |
| 5.3 五边形电极离子阱性能的模拟 | 第135-139页 |
| 5.3.1 五边形电极离子阱的理论模型 | 第135-136页 |
| 5.3.2 五边形电极离子阱模拟的计算机建模 | 第136页 |
| 5.3.3 几何尺寸和电场分布的关系 | 第136-138页 |
| 5.3.4 质量分辨率的理论模拟 | 第138-139页 |
| 5.4 本章小结 | 第139-140页 |
| 5.5 参考文献 | 第140-143页 |
| 第六章 总结及展望 | 第143-147页 |
| 6.1 取得的主要成果 | 第143-144页 |
| 6.2 不足及改进 | 第144页 |
| 6.3 下一步的工作 | 第144-147页 |
| 博士期间发表的研究成果 | 第147-149页 |
| 致谢 | 第149-150页 |
| 作者简历 | 第150-151页 |
