| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| 1.1 椭圆偏振光谱测量技术的发展和应用 | 第7-8页 |
| 1.2 二氧化钛(TiO_2)薄膜研究背景 | 第8-11页 |
| 1.2.1 TiO_2的结构及应用 | 第8-10页 |
| 1.2.2 TiO_2薄膜的制备 | 第10-11页 |
| 1.3 锆钛酸铅(PZT)薄膜研究背景 | 第11-13页 |
| 1.3.1 PZT薄膜的结构及相图 | 第11-12页 |
| 1.3.2 PZT薄膜的制备方法 | 第12-13页 |
| 1.4 温度对光学性质的影响 | 第13-14页 |
| 1.5 本论文工作介绍 | 第14-15页 |
| 第二章 椭偏光谱测量与分析原理 | 第15-30页 |
| 2.1 椭偏光谱测量原理 | 第15-19页 |
| 2.1.1 材料的光学常数与Kramas-Kronig关系 | 第15-17页 |
| 2.1.2 菲涅尔公式和椭偏参数的推导 | 第17-18页 |
| 2.1.3 椭偏参数的推导 | 第18-19页 |
| 2.2 椭偏仪的构造及分析方法 | 第19-25页 |
| 2.2.1 RAP型椭圆偏振光谱仪 | 第19-21页 |
| 2.2.2 变温椭偏装置 | 第21页 |
| 2.2.3 椭偏光谱分析的模型和方法 | 第21-24页 |
| 2.2.4 椭偏模型建立及参数分析 | 第24-25页 |
| 2.3 光学色散模型 | 第25-29页 |
| 2.3.1 常用的光学色散模型 | 第25-28页 |
| 2.3.2 有效介质理论 | 第28-29页 |
| 2.4 小结 | 第29-30页 |
| 第三章 TiO_2薄膜的椭偏研究 | 第30-38页 |
| 3.1 温度相关的光学性质的研究现状 | 第30页 |
| 3.2 样品制备方法 | 第30-31页 |
| 3.3 样品的表征及测量 | 第31-32页 |
| 3.3.1 AFM测量 | 第31页 |
| 3.3.2 XRD测量 | 第31-32页 |
| 3.4 温度对Ti_O2薄膜光学性质的影响 | 第32-37页 |
| 3.5 小结 | 第37-38页 |
| 第四章 PZT薄膜的椭偏研究 | 第38-48页 |
| 4.1 PZT薄膜的研究现状 | 第38页 |
| 4.2 PZT薄膜的制备和测量 | 第38-39页 |
| 4.3 PZT薄膜的椭偏分析 | 第39-42页 |
| 4.4 PZT薄膜薄膜的相变分析 | 第42-47页 |
| 4.5 小结 | 第47-48页 |
| 第五章 工作总结及展望 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |