摘要 | 第2-4页 |
Abstract | 第4-6页 |
第一章 绪论 | 第10-23页 |
1.1 金属的腐蚀及缓蚀剂 | 第10-14页 |
1.1.1 腐蚀的危害 | 第10页 |
1.1.2 缓蚀剂的类型 | 第10-11页 |
1.1.3 缓蚀剂的作用机理 | 第11-12页 |
1.1.4 缓蚀剂的发展方向 | 第12-13页 |
1.1.5 缓蚀剂的研究方法 | 第13-14页 |
1.2 自组装技术 | 第14-15页 |
1.2.1 自组装技术简介 | 第14页 |
1.2.2 自组装膜在金属缓蚀中的应用 | 第14-15页 |
1.2.3 自组装膜在其他领域的应用研究 | 第15页 |
1.2.4 自组装膜的分析方法 | 第15页 |
1.3 电化学交流阻抗谱(Electrochemical Impedance spectroscopy, EIS) | 第15-16页 |
1.4 电化学极化曲线 (Electrochemical Polarization curve) | 第16-17页 |
1.5 拉曼散射光谱效应 | 第17-19页 |
1.5.1 拉曼光谱的发展 | 第17页 |
1.5.2 拉曼散射的原理 | 第17-18页 |
1.5.3 拉曼散射的的特点 | 第18-19页 |
1.6 表面增强拉曼散射光谱( SERS ) | 第19-21页 |
1.6.1 SERS的发展历程 | 第19-20页 |
1.6.2 SERS增强机理 | 第20-21页 |
1.6.3 SERS光谱的应用 | 第21页 |
1.7 本论文工作的研究内容与构想 | 第21-23页 |
1.7.1 植酸钙分子膜对铜缓蚀性能的研究 | 第21-22页 |
1.7.2 甲硫氨酸在 3 wt% NaCl溶液中对铜的缓蚀机理研究 | 第22页 |
1.7.3 银电极上N-(2-巯基丙酰)-甘氨酸(MPG)分子膜的光谱电化学分析 | 第22-23页 |
第二章 植酸钙对金属铜缓蚀作用的电化学及Raman光谱研究 | 第23-40页 |
2.1 引言 | 第23-24页 |
2.2 实验方法 | 第24-26页 |
2.2.1 实验试剂 | 第24页 |
2.2.2 实验仪器 | 第24-25页 |
2.2.3 实验步骤 | 第25-26页 |
2.3 实验结果与讨论 | 第26-38页 |
2.3.1 电化学交流阻抗测量 | 第26-32页 |
2.3.2 电化学极化曲线测量 | 第32-35页 |
2.3.3 表面分析 | 第35页 |
2.3.4 等温吸附曲线 | 第35-37页 |
2.3.5 拉曼光谱研究 | 第37-38页 |
2.4 小结 | 第38-40页 |
第三章 甲硫氨酸在 3 wt% NaCl溶液中对铜的缓蚀机理研究 | 第40-57页 |
3.1 引言 | 第40-41页 |
3.2 实验方法 | 第41-42页 |
3.2.1 实验试剂 | 第41页 |
3.2.2 实验仪器 | 第41页 |
3.2.3 实验步骤 | 第41-42页 |
3.3 实验结果 | 第42-51页 |
3.3.1 开路电位(EOCP)的测量 | 第42-43页 |
3.3.2 电化学阻抗的测量 | 第43-48页 |
3.3.3 电化学极化曲线测量 | 第48-50页 |
3.3.4 表面分析 | 第50-51页 |
3.4 实验讨论 | 第51-56页 |
3.4.1 开路电位分析 | 第51-52页 |
3.4.2 交流阻抗分析 | 第52页 |
3.4.3 极化曲线分析 | 第52-53页 |
3.4.4 等温吸附曲线 | 第53-54页 |
3.4.5 拉曼光谱研究 | 第54-56页 |
3.5 小结 | 第56-57页 |
第四章 银表面N-(2-巯基丙酰)-甘氨酸分子膜的Raman和电化学分析 | 第57-68页 |
4.1 引言 | 第57-58页 |
4.2 实验方法 | 第58-59页 |
4.2.1 实验试剂 | 第58页 |
4.2.2 实验仪器 | 第58页 |
4.2.3 实验步骤 | 第58-59页 |
4.3 实验结果与讨论 | 第59-67页 |
4.3.1 银表面/MPG分子膜的均匀性研究 | 第59-62页 |
4.3.2 银表面/MPG分子膜电化学研究 | 第62-65页 |
4.3.3 银表面/MPG分子膜的SERS研究 | 第65-67页 |
4.4 小结 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-77页 |
攻读硕士期间的科研成果 | 第77-78页 |
致谢 | 第78-80页 |
附件 | 第80页 |