YSZ涂层的电泳沉积制备工艺研究
摘要 | 第2-3页 |
Abstract | 第3页 |
1 绪论 | 第6-18页 |
1.1 研究背景 | 第6页 |
1.2 陶瓷涂层分类 | 第6-8页 |
1.2.1 Al_2O_3陶瓷涂层 | 第7页 |
1.2.2 莫来石陶瓷涂层 | 第7页 |
1.2.3 硅酸盐陶瓷涂层 | 第7-8页 |
1.2.4 氧化钇稳定的氧化锆(YSZ)陶瓷涂层 | 第8页 |
1.3 陶瓷涂层的制备工艺 | 第8-11页 |
1.3.1 物理气相沉积 | 第8-9页 |
1.3.2 等离子喷涂 | 第9页 |
1.3.3 电化学气相沉 | 第9-10页 |
1.3.4 溶胶-凝胶法 | 第10页 |
1.3.5 丝网印刷法 | 第10-11页 |
1.4 电泳沉积的机理及发展 | 第11-16页 |
1.4.1 电泳沉积过程 | 第11-12页 |
1.4.2 电泳沉积机理 | 第12-14页 |
1.4.3 电泳沉积的优点 | 第14-15页 |
1.4.4 电泳沉积制备YSZ涂层发展 | 第15-16页 |
1.5 本论文的研究内容及意义 | 第16-18页 |
2 实验内容及表征方法 | 第18-31页 |
2.1 实验材料 | 第18-21页 |
2.1.1 涂层材料 | 第18-19页 |
2.1.2 分散剂体系 | 第19-21页 |
2.2 实验设备 | 第21页 |
2.3 实验过程 | 第21-26页 |
2.3.1 基体预处理 | 第21-22页 |
2.3.2 YSZ悬浮液的制备 | 第22-23页 |
2.3.3 实验装置 | 第23-24页 |
2.3.4 电泳沉积实验 | 第24-25页 |
2.3.5 样品热处理 | 第25-26页 |
2.4 微观分析和性能测试 | 第26-30页 |
2.4.1 扫描电子显微镜 | 第26页 |
2.4.2 X射线衍射分析 | 第26-27页 |
2.4.3 涂层厚度测试 | 第27-29页 |
2.4.4 涂层结合强度测试 | 第29-30页 |
2.5 本章小结 | 第30-31页 |
3 片状样品电泳沉积制备YSZ涂层 | 第31-49页 |
3.1 宏观形貌 | 第31-32页 |
3.2 X射线衍射分析 | 第32-33页 |
3.3 显微结构分析 | 第33-37页 |
3.3.1 YSZ涂层表面微观形貌 | 第33-35页 |
3.3.2 YSZ涂层截面微观形貌 | 第35-37页 |
3.4 电泳沉积工艺对电流的影响 | 第37-40页 |
3.5 电泳沉积工艺对涂层厚度的影响 | 第40-43页 |
3.6 电泳沉积工艺对结合力的影响 | 第43-46页 |
3.7 热处理时间对涂层的影响 | 第46-47页 |
3.8 本章小结 | 第47-49页 |
4 管状样品电泳沉积制备YSZ涂层 | 第49-55页 |
4.1 溶液流速和沉积方式对涂层的影响 | 第49-50页 |
4.2 涂层显微结构分析 | 第50-51页 |
4.3 电泳沉积工艺对涂层厚度的影响 | 第51-53页 |
4.4 管状样品涂层与基体的结合力 | 第53页 |
4.5 本章小结 | 第53-55页 |
结论 | 第55-57页 |
参考文献 | 第57-61页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-64页 |