| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-33页 |
| 1.1 超导体的基本特征 | 第13-14页 |
| 1.2 超导材料发展概况 | 第14-16页 |
| 1.3 超导理论的发展概况 | 第16-17页 |
| 1.4 铜氧化物超导体简介 | 第17-30页 |
| 1.4.1 铜氧化物超导体的结构和相图 | 第17-22页 |
| 1.4.2 铜氧化物超导体的基本性质 | 第22页 |
| 1.4.3 铜氧化物超导体有关理论的发展 | 第22-23页 |
| 1.4.4 铜氧化物超导体的研究热点 | 第23-24页 |
| 1.4.5 铜氧化物超导体的高压研究成果 | 第24-30页 |
| 1.4.5.1 铜氧化物超导体中的压力效应 | 第28-29页 |
| 1.4.5.2 压力诱导的无序或者相分离对超导电性的影响 | 第29-30页 |
| 1.5 本论文的研究内容和研究意义 | 第30-33页 |
| 1.5.1 研究内容 | 第30-32页 |
| 1.5.2 研究意义 | 第32-33页 |
| 第二章 高压实验方法介绍 | 第33-49页 |
| 2.1 金刚石对顶砧 | 第34-39页 |
| 2.1.1 金刚石对顶砧(diamond anvil cells,金刚石对顶砧)高压装置 | 第34-35页 |
| 2.1.2 金刚石对顶砧工作原理 | 第35-38页 |
| 2.1.3 金刚石对顶砧的基本操作 | 第38-39页 |
| 2.2 金刚石对顶砧装置的应用 | 第39-48页 |
| 2.2.1 高压同步辐射X射线衍射 | 第39-41页 |
| 2.2.2 高压拉曼光谱测试 | 第41-42页 |
| 2.2.3 高压电输运测量技术 | 第42-46页 |
| 2.2.4 高压交流磁化率测量 | 第46-48页 |
| 2.3 本章总结 | 第48-49页 |
| 第三章 压力和无序对近最优掺杂Tl_2Ba_2CaCu_2O_(8+δ)超导电性的影响 | 第49-61页 |
| 3.1 引言 | 第49-51页 |
| 3.2 近最优掺杂Tl_2Ba_2CaCu_2O_(8+δ)高压同步辐射X射线衍射实验结果与分析 | 第51-54页 |
| 3.2.1 实验过程 | 第51页 |
| 3.2.2 高压同步辐射X射线衍射实验结果分析 | 第51-54页 |
| 3.3 近最优掺杂Tl_2Ba_2CaCu_2O_(8+δ)的高压拉曼光谱实验结果与分析 | 第54-56页 |
| 3.3.1 实验过程 | 第54页 |
| 3.3.2 高压拉曼光谱结果分析 | 第54-56页 |
| 3.4 近最优掺杂Tl_2Ba_2CaCu_2O_(8+δ)的高压交流磁化率实验结果与分析 | 第56-59页 |
| 3.4.1 实验过程 | 第56-57页 |
| 3.4.2 高压交流磁化率实验结果与分析 | 第57-59页 |
| 3.5 压力效应对近最优掺杂Tl_2Ba_2CaCu_2O_(8+δ)超导电性的影响 | 第59-60页 |
| 3.6 无序对近最优掺杂Tl_2Ba_2CaCu_2O_(8+δ)超导电性的影响 | 第60页 |
| 3.7 本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 压力和无序对近最优掺杂Tl_2Ba_2Ca_2Cu_3O_(10+δ)超导电性的影响 | 第61-79页 |
| 4.1 引言 | 第61-66页 |
| 4.2 近最优掺杂Tl_2Ba_2Ca_2Cu_3O_(10+δ)高压交流磁化率测量结果 | 第66-68页 |
| 4.2.1 实验过程 | 第66页 |
| 4.2.2 高压交流磁化率测量结果 | 第66-68页 |
| 4.3 近最优掺杂Tl_2Ba_2Ca_2Cu_3O_(10+δ)的高压拉曼结果与分析 | 第68-72页 |
| 4.3.1 实验过程 | 第68页 |
| 4.3.2 近最优掺杂Tl_2Ba_2Ca_2Cu_3O_(10+δ)的高压拉曼 | 第68-72页 |
| 4.4 近最优掺杂Tl_2Ba_2Ca_2Cu_3O_(10+δ)单晶高压同步辐射X射线衍射结果与分析 | 第72-74页 |
| 4.4.1 实验过程 | 第72页 |
| 4.4.2 近最优掺杂Tl_2Ba_2Ca_2Cu_3O_(10+δ)单晶高压同步辐射X射线衍射分析 | 第72-74页 |
| 4.5 压力效应与无序对近最优掺杂Tl_2Ba_2Ca_2Cu_3O_(10+δ)超导电性的影响 | 第74-77页 |
| 4.6 本章小结 | 第77-79页 |
| 第五章 压力和无序以及相变对欠掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)超导电性的影响 | 第79-93页 |
| 5.1 引言 | 第79-81页 |
| 5.2 欠掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)高压同步辐射X射线衍射 | 第81-86页 |
| 5.2.1 实验过程 | 第81-82页 |
| 5.2.2 欠掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)高压同步辐射X射线衍射结果分析 | 第82-86页 |
| 5.3 欠掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)高压低温拉曼光谱 | 第86-88页 |
| 5.3.1 实验过程 | 第86页 |
| 5.3.2 欠掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)高压低温拉曼结果与分析 | 第86-88页 |
| 5.4 欠掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)高压交流磁化率测量 | 第88-90页 |
| 5.4.1 实验过程 | 第88页 |
| 5.4.2 高压交流磁化率结果分析 | 第88-90页 |
| 5.5 欠掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)压力诱导的无序 | 第90-92页 |
| 5.6 欠掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)高压下结构、振动模式与超导电性之间的关系 | 第92页 |
| 5.7 本章小结 | 第92-93页 |
| 第六章 压力和无序对近最优掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)超导电性的影响 | 第93-99页 |
| 6.1 引言 | 第93页 |
| 6.2 近最优掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)的高压同步辐射X射线衍射 | 第93-95页 |
| 6.2.1 实验过程 | 第93页 |
| 6.2.2 近最优掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)高压同步辐射X射线衍射结果分析 | 第93-95页 |
| 6.3 近最优掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)的交流磁化率测量 | 第95-97页 |
| 6.3.1 实验过程 | 第95页 |
| 6.3.2 近最优掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)的交流磁化率测量结果分析 | 第95-97页 |
| 6.4 压力和无序对近最优掺杂Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)超导电性的影响 | 第97页 |
| 6.5 本章小结 | 第97-99页 |
| 结论与展望 | 第99-102页 |
| 本论文的主要工作总结 | 第99-100页 |
| 下一步的工作计划 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-111页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第111-113页 |
| 致谢 | 第113-114页 |
| 附件 | 第114页 |
