增加飞秒激光光束焦深的折衍混合元件的设计制作
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-17页 |
1.1 引言 | 第9-10页 |
1.2 国内外实现光束长焦深现状分析 | 第10-15页 |
1.2.1 改变数值孔径 | 第10页 |
1.2.2 轴锥镜 | 第10-11页 |
1.2.3 无衍射光束 | 第11-12页 |
1.2.4 能量守恒法 | 第12-13页 |
1.2.5 衍射相位元件 | 第13-14页 |
1.2.6 波前编码技术 | 第14页 |
1.2.7 多焦透镜 | 第14-15页 |
1.3 本文研究内容 | 第15-17页 |
1.3.1 问题的提出 | 第15-16页 |
1.3.2 主要研究内容 | 第16-17页 |
第2章 课题研究方案介绍 | 第17-23页 |
2.1 课题总体研究方案介绍 | 第17-18页 |
2.2 模拟软件介绍 | 第18页 |
2.3 硬件设备介绍 | 第18-20页 |
2.4 制作与测试材料选择 | 第20-21页 |
2.5 本章小结 | 第21-23页 |
第3章 折衍混合元件的设计 | 第23-37页 |
3.1 折衍混合元件实现长焦深的光学原理分析 | 第23-26页 |
3.2 折衍混合元件的设计思路 | 第26-28页 |
3.3 衍射面型初始结构的计算 | 第28-31页 |
3.4 折衍混合元件结构的优化 | 第31-33页 |
3.4.1 基本光路的建立 | 第31-32页 |
3.4.2 折衍混合元件结构的优化 | 第32-33页 |
3.5 理论模拟结果 | 第33-35页 |
3.6 本章小结 | 第35-37页 |
第4章 折衍混合元件的制作与测试 | 第37-55页 |
4.1 光刻工艺 | 第38-42页 |
4.1.1 掩模版的设计与制作 | 第38-40页 |
4.1.2 光刻实验 | 第40-42页 |
4.2 刻蚀工艺 | 第42-49页 |
4.2.1 离子束刻蚀实验 | 第42-45页 |
4.2.2 等离子体刻蚀实验 | 第45-47页 |
4.2.3 刻蚀效果 | 第47-49页 |
4.3 元件形貌 | 第49-50页 |
4.4 焦深增加效果测试 | 第50-53页 |
4.5 误差分析 | 第53-54页 |
4.6 本章小结 | 第54-55页 |
结论与展望 | 第55-57页 |
参考文献 | 第57-61页 |
攻读硕士学位期间所获得的研究成果 | 第61-63页 |
致谢 | 第63页 |