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低电压高通量MEMS数字微流控芯片基础理论及关键技术研究

中文摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第一章 绪论第9-16页
    1.1 基于EWOD技术的MEMS数字微流控芯片国内外研究现状第9-14页
    1.2 本课题的研究目的以及研究内容第14-16页
        1.2.1 数字微流控芯片存在的局限性第14页
        1.2.2 本课题的研究目的与意义第14-15页
        1.2.3 本文的主要研究内容第15-16页
第二章 开放式数字微流控芯片的设计理论与性能评价方法第16-25页
    2.1 电润湿与EWOD驱动原理第16-17页
    2.2 开放式数字微流控芯片设计理论与加工工艺第17-20页
    2.3 对比实验与性能评价第20-23页
        2.3.1 阈值电压第21页
        2.3.2 数字化驱动性能第21-23页
        2.3.3 二维拓展性第23页
    2.4 本章小结第23-25页
第三章 低电压高通量数字微流控芯片设计与性能评价第25-33页
    3.1 低电压高通量数字微流控芯片设计方案第25-26页
    3.2 模型分析第26-30页
        3.2.1 电路模型分析第26-27页
        3.2.2 系统能量与液滴受力分析第27-30页
    3.3 实验验证与性能对比第30-32页
    3.4 本章小结第32-33页
第四章 开放式EWOD驱动器运输液滴的动态饱和现象与动力学模型第33-46页
    4.1 开放式EWOD运输液滴的动态饱和现象第33-34页
    4.2 开放式EWOD驱动器运输液滴动态饱和模型第34-40页
    4.3 模型参数讨论第40-45页
        4.3.1 电润湿系数,M第41页
        4.3.2 介电层厚度与介电系数第41-42页
        4.3.3 超疏水表面第42-44页
        4.3.4 界面电子与接触角饱和现象第44-45页
    4.4 本章小结第45-46页
第五章 MEMS数字微流控芯片与压电生物化学传感器单片集成第46-59页
    5.1 EWOD与压电生物传感器集成方案第46-48页
    5.2 EWOD与压电生物传感器集成关键技术第48-53页
        5.2.1 Teflon Lift-off方案第49-50页
        5.2.2 硅烷化试剂选择性疏水修饰方案第50-53页
    5.3 硅烷化试剂选择性疏水修饰的FBAR质量传感器性能第53-55页
    5.4 汞离子实验与信号增强效应第55-56页
    5.5 压电MEMS数字微流控技术第56-58页
    5.6 本章小结第58-59页
第六章 总结与展望第59-61页
    6.1 论文完成的主要工作第59页
    6.2 论文的创新点第59-60页
    6.3 有待解决的问题第60页
    6.4 后期工作展望第60-61页
参考文献第61-66页
发表论文和参加科研情况说明第66-67页
致谢第67-68页

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