声光可调谐滤波器的加工工艺研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| ·选题背景及研究目的及意义 | 第9-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-14页 |
| ·声光可调滤波器的国内外研究现状 | 第10-11页 |
| ·化学机械研磨工艺的国内外研究现状 | 第11-12页 |
| ·真空镀膜工艺的国内外研究现状 | 第12-14页 |
| ·课题来源及研究内容 | 第14-15页 |
| 2 制作声光可调滤波器的理论分析 | 第15-29页 |
| ·AOTF的物质基础 | 第15-20页 |
| ·二氧化碲的慢切变波简介 | 第16-19页 |
| ·铌酸锂晶体压电性能 | 第19-20页 |
| ·平行动量匹配条件 | 第20-21页 |
| ·AOTF工作原理 | 第21-22页 |
| ·化学机械研磨抛光原理 | 第22-24页 |
| ·定偏心平面加工原理 | 第23页 |
| ·CMP加工原理 | 第23-24页 |
| ·真空镀膜原理 | 第24-28页 |
| ·真空电阻蒸发镀膜工作原理 | 第24-27页 |
| ·磁控溅射镀膜工作原理 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 3 晶体定向和研磨抛光工艺 | 第29-36页 |
| ·压电晶体定向 | 第29-30页 |
| ·振动模态选择 | 第29-30页 |
| ·切型选择 | 第30页 |
| ·晶体的研磨抛光工艺 | 第30-35页 |
| ·抛光液的磨料浓度的影响 | 第31页 |
| ·抛光液的pH值的影响 | 第31-33页 |
| ·抛光盘转速的影响 | 第33页 |
| ·压力的影响 | 第33-34页 |
| ·工艺参数及实验结果 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 4 真空镀膜压合和压电换能器减薄工艺 | 第36-50页 |
| ·压电换能器膜层参数计算 | 第36-39页 |
| ·真空镀铬工艺 | 第39页 |
| ·真空镀金工艺 | 第39-41页 |
| ·真空镀铟压合工艺 | 第41-42页 |
| ·压电晶体减薄工艺 | 第42-49页 |
| ·减薄夹具设计和校准方法的选择 | 第42-47页 |
| ·工艺参数及减薄结果 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 5 总结与展望 | 第50-51页 |
| ·本文研究工作总结 | 第50页 |
| ·进一步的工作和建议 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及专利 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
