| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-18页 |
| ·能源材料简介 | 第9-10页 |
| ·聚变堆中的钨合金 | 第10-14页 |
| ·聚变堆中的典型第一壁材料 | 第10-11页 |
| ·聚变堆中钨合金的研究现状 | 第11-12页 |
| ·钨合金表面纳米化的新思路 | 第12-14页 |
| ·裂变堆中的锆合金 | 第14-17页 |
| ·锆合金的氧化 | 第15页 |
| ·氢对锆合金腐蚀的影响 | 第15-17页 |
| ·研究背景及意义 | 第17-18页 |
| 第2章 实验方法及表征手段 | 第18-25页 |
| ·实验内容与方法 | 第18-19页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第19-20页 |
| ·实验仪器 | 第19-20页 |
| ·实验试剂 | 第20页 |
| ·实验表征手段 | 第20-25页 |
| ·形貌及物相表征手段 | 第20-22页 |
| ·电化学性能测试手段 | 第22-25页 |
| 第3章 脱合金法制备WO_3纳米片及W多孔纳米结构 | 第25-64页 |
| ·前沿 | 第25页 |
| ·脱合金法制备WO_3纳米片及其光解水制氢性能的研究 | 第25-42页 |
| ·实验仪器与药品 | 第25-26页 |
| ·实验过程 | 第26页 |
| ·晶相分析 | 第26-29页 |
| ·纳米片的形貌观察 | 第29-32页 |
| ·纳米片结构的界面电容测定与表面积对比 | 第32-33页 |
| ·WO_3纳米层光吸收谱测定 | 第33-37页 |
| ·WO_3纳米层的光电化学性能 | 第37-40页 |
| ·纳米片WO_3样品的稳定性 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| ·析氧催化剂(Co-PiOEC)对纳米片WO_3光电化学性能的影响研究 | 第42-53页 |
| ·实验仪器与药品 | 第43页 |
| ·实验过程 | 第43页 |
| ·实验结果与表征分析 | 第43-53页 |
| ·小结 | 第53页 |
| ·钨纳米多孔层的脱合金法制备 | 第53-63页 |
| ·实验仪器与药品 | 第54页 |
| ·实验过程 | 第54-55页 |
| ·实验结果与分析 | 第55-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| ·总结 | 第63-64页 |
| 第4章 Zr的吸氢腐蚀电化学研究 | 第64-73页 |
| ·金属与氢的相互作用 | 第64页 |
| ·实验仪器与药品 | 第64页 |
| ·实验过程 | 第64-65页 |
| ·实验结果与分析 | 第65-72页 |
| ·吸氢金属锆的电化学特征 | 第65-67页 |
| ·吸氢金属锆氧化后的电化学特征 | 第67-72页 |
| ·小结 | 第72-73页 |
| 第5章 结论与后续工作建议 | 第73-75页 |
| ·结论 | 第73-74页 |
| ·后续工作建议 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81-83页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第83页 |
