等离子体弧磁热耦合特性分析及抛光玉石的机理研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| ·课题研究背景 | 第10-12页 |
| ·等离子体弧特性和抛光的国内外研究现状 | 第12-15页 |
| ·课题研究意义 | 第15页 |
| ·课题研究内容 | 第15-16页 |
| ·本章小结 | 第16-17页 |
| 2 等离子体弧相关特性及抛光的理论基础 | 第17-26页 |
| ·等离子体弧的定义及其产生方法 | 第17页 |
| ·等离子体的物理化学特性 | 第17-20页 |
| ·等离子体中两种温度概念 | 第17-18页 |
| ·德拜半径和振荡频率 | 第18-19页 |
| ·等离子体中的碰撞 | 第19-20页 |
| ·等离子体弧抛光的相关基础理论 | 第20-24页 |
| ·等离子体弧种类及应用领域 | 第20-22页 |
| ·等离子体弧与材料表面的作用形式 | 第22-23页 |
| ·抛光的机理分析 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-26页 |
| 3 等离子体弧抛光玉石的温度场和数值模拟分析 | 第26-39页 |
| ·等离子体弧玉石抛光的基础理论及密玉概述 | 第26-27页 |
| ·等离子体弧玉石抛光的基础理论 | 第26-27页 |
| ·密玉概述 | 第27页 |
| ·热量的传递和分布 | 第27-30页 |
| ·玉石对能量的吸收 | 第27页 |
| ·玉石的加热 | 第27-30页 |
| ·温度场的数值模拟分析 | 第30-35页 |
| ·数值模拟的意义 | 第30-31页 |
| ·温度场数值模拟分析的过程 | 第31-34页 |
| ·有限元分析 | 第34-35页 |
| ·模拟分析的结果 | 第35-37页 |
| ·温度场随时间的变化 | 第35-37页 |
| ·玉石表面不同点温度随时间的变化 | 第37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 4 实验研究与结果分析 | 第39-67页 |
| ·实验总体思路分析 | 第39-40页 |
| ·实验系统及实验方法 | 第40-44页 |
| ·等离子体弧产生装置 | 第40页 |
| ·测试仪器 | 第40-42页 |
| ·实验方法 | 第42-44页 |
| ·磁热耦合特性分析 | 第44-58页 |
| ·自生磁场强度随参数的变化 | 第44-51页 |
| ·等离子体弧自生磁场的分布 | 第51-52页 |
| ·工件中心心的温度随参数的变化关系 | 第52-58页 |
| ·抛光实验研究 | 第58-66页 |
| ·玉石的初始表面形态 | 第58页 |
| ·去除机理分析 | 第58-60页 |
| ·电流对表面粗糙度的影响 | 第60-62页 |
| ·气体流量对表面粗糙度的影响 | 第62-64页 |
| ·外加磁场对表面粗糙度的影响 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 结论与展望 | 第67-69页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 个人简历 | 第73页 |
