基于SOI脊型波导的跑道型谐振腔电光调制器
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·本课题研究的背景 | 第10-11页 |
| ·谐振腔的国内外研究现状 | 第11-14页 |
| ·调制器的国内外研究现状 | 第14-16页 |
| ·本文的主要研究内容及意义 | 第16-18页 |
| 第二章 SOI脊型波导跑道型谐振腔分析 | 第18-26页 |
| ·SOI脊型波导的特性分析 | 第18-23页 |
| ·脊型波导中的传输模式分析 | 第18-20页 |
| ·脊型波导的模式仿真 | 第20-22页 |
| ·脊型波导的偏振相关性 | 第22-23页 |
| ·跑道型谐振腔模式分离特性分析 | 第23-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 调制器电学结构的分析设计 | 第26-34页 |
| ·P-I-N结简介 | 第26-28页 |
| ·等离子体色散效应 | 第28-31页 |
| ·P-I-N型调制器仿真分析及结构设计 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 跑道型谐振腔调制器的加工制备 | 第34-40页 |
| ·关键工艺介绍 | 第34-36页 |
| ·光刻 | 第34页 |
| ·电子束光刻 | 第34页 |
| ·等离子体刻蚀 | 第34-35页 |
| ·离子注入 | 第35页 |
| ·退火 | 第35-36页 |
| ·电子束蒸发 | 第36页 |
| ·跑道型谐振腔调制器的整体加工制备过程 | 第36-39页 |
| ·P-I-N结的制备过程 | 第36-37页 |
| ·波导结构的制备过程 | 第37-38页 |
| ·绝缘层淀积及电极窗口腐蚀 | 第38页 |
| ·高温退火 | 第38页 |
| ·金属电极制作及引线键合 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 调制器测试结果分析 | 第40-50页 |
| ·跑道型谐振腔测试结果分析 | 第40-42页 |
| ·调制器静态特性测试 | 第42-47页 |
| ·调制器频移特性测试 | 第42-43页 |
| ·调制器P-I-N结特性测试 | 第43-47页 |
| ·调制器动态特性测试 | 第47-49页 |
| ·动态特性测试过程 | 第47-48页 |
| ·动态特性测试结果分析 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第六章 总结与展望 | 第50-52页 |
| ·论文主要研究工作及创新性 | 第50-51页 |
| ·下一步工作及未来研究方向 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
