| 中文摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-18页 |
| ·研究背景简介 | 第13-15页 |
| ·铁电材料的历史过程与研究进程 | 第13页 |
| ·铁电材料的基本性质和常见应用 | 第13-14页 |
| ·BiFeO_3的性质及其研究现状 | 第14-15页 |
| ·本文主要研究内容 | 第15-17页 |
| ·LaNiO_3底电极最优生长参数的探索 | 第15-16页 |
| ·不同Bi含量BiFeO_3薄膜制备及性质研究 | 第16页 |
| ·Bi_(0.9)La_(0.1)Fe_(1-x)Cr_xO_3薄膜的制备及物理性质研究 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-18页 |
| 第二章 LaNiO_3底电极的制备与性质分析 | 第18-26页 |
| ·LaNiO_3性质及研究现状 | 第18-19页 |
| ·LaNiO_3底电极的制备 | 第19页 |
| ·LaNiO_3底电极的结构与电学性质分析 | 第19-24页 |
| ·生长参数的影响 | 第19-21页 |
| ·退火温度的影响 | 第21-22页 |
| ·LaNiO_3底电极的表面结构分析 | 第22-23页 |
| ·LaNiO_3底电极的导电性分析 | 第23-24页 |
| ·小结 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-26页 |
| 第三章 不同Bi含量BiFeO_3薄膜的制备及性质表征 | 第26-42页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·实验准备及过程 | 第26-27页 |
| ·靶材的制备 | 第26-27页 |
| ·BiFeO_3薄膜的制备 | 第27页 |
| ·不同Bi含量BiFeO_3薄膜结构及表面形貌 | 第27-33页 |
| ·不同Bi含量BiFeO_3薄膜的椭偏测试 | 第33-38页 |
| ·不同Bi含量BiFeO_3薄膜的电学测试 | 第38-39页 |
| ·小结 | 第39-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 第四章 Bi_(0.9)La_(0.1)Fe_(1-x)Cr_xO_3薄膜的电学、磁学及光学性质表征 | 第42-56页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·LNO/Si衬底上Bi_(0.9)La_(0.1)Fe_(1-x)Cr_xO_3薄膜的性质研究 | 第42-48页 |
| ·LNO/Si衬底上Bi_(0.9)La_(0.1)Fe_(1-x)Cr_xO_3薄膜的结构分析 | 第42-44页 |
| ·LNO/Si衬底上Bi_(0.9)La_(0.1)Fe_(1-x)Cr_xO_3薄膜的磁学性能 | 第44-46页 |
| ·LNO/Si衬底上Bi_(0.9)La_(0.1)Fe_(1-x)Cr_xO_3薄膜的拉曼分析 | 第46-48页 |
| ·石英衬底上Bi_(0.9)La_(0.1)Fe_(1-x)Cr_xO_3薄膜的性质研究 | 第48-53页 |
| ·石英衬底上Bi_(0.9)La_(0.1)Fe_(1-x)Cr_xO_3薄膜结构性质 | 第48-50页 |
| ·石英衬底上Bi_(0.9)La_(0.1)Fe_(1-x)Cr_xO_3薄膜的光学性能 | 第50-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第五章 总结与展望 | 第56-58页 |
| ·总结 | 第56-57页 |
| ·展望 | 第57-58页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及专利 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
