| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 主要符号对照表 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-36页 |
| ·硬盘工业及记录介质的回顾 | 第10-15页 |
| ·磁记录方式的发展趋势 | 第15-26页 |
| ·记录密度继续提高的困境 | 第15-17页 |
| ·未来可能的几种磁记录方式 | 第17-24页 |
| ·支撑更高记录密度的介质 | 第24-26页 |
| ·微磁学理论的简要介绍 | 第26-34页 |
| ·LLG 方程和有效场 | 第27-28页 |
| ·Stoner-Wohlfarth 模型及动态反转 | 第28-33页 |
| ·介质微结构的模拟 | 第33-34页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第34-36页 |
| 第2章 FePt 纳米孪晶颗粒的磁晶各向异性分布 | 第36-47页 |
| ·本章引论 | 第36页 |
| ·纳米孪晶颗粒的磁晶各向异性场模型 | 第36-40页 |
| ·纳米颗粒中孪晶结构的实验观察 | 第36-38页 |
| ·磁晶各向异性场模型的建立 | 第38-40页 |
| ·孪晶颗粒中磁晶各向异性场的分布 | 第40页 |
| ·孪晶对磁晶各向异性场分布及磁记录性能的影响 | 第40-45页 |
| ·五重孪晶结构的磁晶各向异性场分布 | 第40-43页 |
| ·三重或七重结构的磁晶各向异性场分布 | 第43-45页 |
| ·孪晶结构对磁记录性能的影响 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第3章 ECC 介质及叠层瓦片式磁记录的研究 | 第47-71页 |
| ·本章引论 | 第47页 |
| ·ECC 介质的反转特性研究 | 第47-58页 |
| ·双颗粒模型 | 第48-49页 |
| ·反常反转及阻尼因子对反转的影响 | 第49-53页 |
| ·软/硬磁颗粒之间交换作用场 Hex对反转的影响 | 第53-56页 |
| ·软磁颗粒磁晶各向异性场 Hk2对反转的影响 | 第56页 |
| ·软磁颗粒体积 V2与饱和磁化强度 Ms2对反转的影响 | 第56-58页 |
| ·叠层瓦片式磁记录过程的研究 | 第58-69页 |
| ·介质信噪比的定义 | 第58-60页 |
| ·ECC 介质和传统垂直薄膜介质的模拟参数 | 第60-61页 |
| ·单极型写磁头场的模拟 | 第61-62页 |
| ·叠层瓦片式磁记录的写入过程模拟 | 第62-63页 |
| ·ECC 介质和传统垂直薄膜介质的记录密度极限 | 第63-65页 |
| ·磁道宽度和比特长度对信噪比的影响 | 第65-66页 |
| ·优化的介质参数 | 第66-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第4章 比特图形磁记录过程的研究 | 第71-89页 |
| ·本章引论 | 第71-72页 |
| ·光刻法制备 BPM 介质的磁记录过程模拟 | 第72-81页 |
| ·单极型写磁头和介质的微磁学模拟 | 第72-75页 |
| ·BPM 介质的可写入性分析 | 第75-76页 |
| ·BPM 介质的记录过程模拟 | 第76-81页 |
| ·离子辐照法制备 BPM 介质的磁记录过程模拟 | 第81-85页 |
| ·离子辐照法制备 BPM 介质的模拟 | 第81页 |
| ·被辐照区域的磁性质对正确写入的影响 | 第81-85页 |
| ·离子辐照法制备 BPM 介质的记录密度极限 | 第85-88页 |
| ·本章小结 | 第88-89页 |
| 第5章 结论 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-100页 |
| 致谢 | 第100-102页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第102页 |