| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·稀土合金材料 | 第11-14页 |
| ·稀土材料的加工方法 | 第11-12页 |
| ·稀土合金材料的应用 | 第12-13页 |
| ·稀土合金材料的发展方向 | 第13-14页 |
| ·室温非水化学镀的研究现状 | 第14-17页 |
| ·室温非水体系化学镀工艺介绍 | 第14-15页 |
| ·施镀工艺条件的影响因素 | 第15-16页 |
| ·室温化学镀的特点和发展趋势 | 第16-17页 |
| ·氢能源的应用 | 第17-20页 |
| ·氢能的制备 | 第17-18页 |
| ·氢能的存储 | 第18-20页 |
| ·氢能的应用 | 第20页 |
| ·硼氢化钠水解产氢研究 | 第20-25页 |
| ·硼氢化钠的性质 | 第20-21页 |
| ·硼氢化钠水解产氢催化剂 | 第21-24页 |
| ·NaBH4制氢的优点和存在的问题 | 第24-25页 |
| ·研究的意义、目的和内容 | 第25-26页 |
| 第二章 实验材料和方法 | 第26-33页 |
| ·药品与仪器 | 第26-27页 |
| ·药品及处理 | 第26-27页 |
| ·主要仪器 | 第27页 |
| ·化学镀工艺研究 | 第27-29页 |
| ·化学镀流程 | 第27-29页 |
| ·镀液工艺的优化和选择 | 第29页 |
| ·催化剂的制备及测试 | 第29-30页 |
| ·催化剂的制备 | 第29-30页 |
| ·催化活性的测试 | 第30页 |
| ·镀层结构的测定 | 第30-33页 |
| ·X-衍射(XRD) | 第31页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第31-32页 |
| ·能谱分析(EDS) | 第32页 |
| ·透射扫描电镜(TEM) | 第32页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) | 第32-33页 |
| 第三章 室温化学镀 Ni-B 和 Gd-Ni-B 合金 | 第33-43页 |
| ·化学镀 Ni-B 合金的工艺研究 | 第33-37页 |
| ·制备工艺 | 第34-35页 |
| ·乙醇中化学镀配方的优化 | 第35-36页 |
| ·各因素对镀速的影响 | 第36-37页 |
| ·Gd 对化学镀 Ni-B 合金的影响 | 第37-42页 |
| ·Gd 对镀层化学成分分析 | 第37-39页 |
| ·Gd 对镀层结构的影响 | 第39-40页 |
| ·Gd 对镀层形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·Gd 对镀层磁性的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 化学镀 La-Ni–B/Fe3O4及催化产氢研究 | 第43-52页 |
| ·实验 | 第44-45页 |
| ·催化剂制备 | 第44页 |
| ·催化剂表征 | 第44页 |
| ·催化活性测试 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-47页 |
| ·表面形貌 | 第45-46页 |
| ·成分及组成 | 第46-47页 |
| ·镀层 XRD 分析图 | 第47页 |
| ·催化产氢性能研究 | 第47-51页 |
| ·镀液体积对产氢的影响 | 第47-48页 |
| ·氢氧化钠浓度对产氢速率的影响 | 第48-49页 |
| ·硼氢化钠浓度对产氢速率的影响 | 第49-50页 |
| ·压力对产氢速率的影响 | 第50页 |
| ·循环次数对催化剂的影响 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 化学镀 Ce-Ni-B 纳米阵列管及催化产氢研究 | 第52-62页 |
| ·实验研究 | 第53-54页 |
| ·催化剂的制备 | 第53页 |
| ·催化剂的性质 | 第53页 |
| ·催化剂的活性研究 | 第53-54页 |
| ·催化剂的性质 | 第54-56页 |
| ·催化剂的微观结构 | 第54-55页 |
| ·催化剂的组成 | 第55-56页 |
| ·催化剂产氢的研究 | 第56-61页 |
| ·不同催化剂对产氢的影响 | 第56-58页 |
| ·氢氧化钠浓度对产氢的影响 | 第58页 |
| ·NaBH4 浓度催产氢的影响 | 第58-59页 |
| ·催化剂的循环利用 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 总结 | 第62-64页 |
| ·结论 | 第62-63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 个人简历 | 第77页 |
