NiFe薄膜制备技术研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-20页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·NiFe 薄膜研究现状 | 第12-19页 |
| ·显微分析表征 | 第12-14页 |
| ·磁性能测量 | 第14-17页 |
| ·薄膜应用研究 | 第17-19页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 磁控溅射法制备 NiFe 薄膜 | 第20-47页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·溅射气压与溅射功率对薄膜溅射速率及形貌的影响 | 第20-23页 |
| ·溅射气压对薄膜溅射速率及形貌的影响 | 第20-22页 |
| ·溅射功率对薄膜溅射速率及形貌的影响 | 第22-23页 |
| ·不同基片对薄膜的影响 | 第23-29页 |
| ·不同基片对薄膜物相结构及微观形貌的影响 | 第23-25页 |
| ·不同基片对薄膜静磁性能的影响 | 第25-26页 |
| ·不同基片对薄膜微波性能的影响 | 第26-29页 |
| ·基片温度对薄膜性能的影响 | 第29-34页 |
| ·基片温度对薄膜物相结构及微观形貌的影响 | 第29-31页 |
| ·基片温度对薄膜静磁性能的影响 | 第31-32页 |
| ·基片温度对薄膜微波性能的影响 | 第32-34页 |
| ·厚度对薄膜性能的影响 | 第34-38页 |
| ·厚度对薄膜物相结构及微观形貌的影响 | 第34-35页 |
| ·厚度对薄膜静磁性能的影响 | 第35-37页 |
| ·厚度对薄膜微波性能的影响 | 第37-38页 |
| ·Cu 缓冲层及覆盖层对薄膜性能的影响 | 第38-47页 |
| ·Cu 缓冲层对薄膜性能的影响 | 第39-41页 |
| ·Cu 覆盖层对薄膜性能的影响 | 第41-44页 |
| ·Cu 缓冲层及覆盖层对薄膜性能的影响 | 第44-47页 |
| 第三章 电子束蒸发技术制备 NiFe 薄膜 | 第47-66页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·不同基片对薄膜性能的影响 | 第47-51页 |
| ·不同基片对薄膜相结构及表面形貌的影响 | 第47-49页 |
| ·不同基片对薄膜静磁性能的影响 | 第49-50页 |
| ·不同基片对薄膜微波性能的影响 | 第50-51页 |
| ·退火温度对薄膜性能的影响 | 第51-55页 |
| ·退火温度对薄膜相结构及微观形貌的影响 | 第52-53页 |
| ·退火温度对薄膜静磁性能的影响 | 第53-54页 |
| ·退火温度对薄膜微波性能的影响 | 第54-55页 |
| ·基片温度对薄膜性能的影响 | 第55-59页 |
| ·基片温度对薄膜相结构及微观形貌的影响 | 第55-57页 |
| ·基片温度对薄膜磁性能的影响 | 第57-58页 |
| ·基片温度对薄膜微波性能的影响 | 第58-59页 |
| ·厚度对薄膜性能的影响 | 第59-66页 |
| ·厚度对薄膜相结构的影响 | 第60-62页 |
| ·膜厚对薄膜静磁性能的影响 | 第62-66页 |
| 第四章 结论 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第74-75页 |
