不锈钢表面氧化膜暂态光电流响应分析
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-15页 |
| 物理量名称及符号表 | 第15-19页 |
| 第1章 绪论 | 第19-40页 |
| ·研究背景 | 第19-23页 |
| ·高温高压水环境下金属氧化膜 | 第21-22页 |
| ·光电化学响应 | 第22-23页 |
| ·国内外研究动态 | 第23-27页 |
| ·稳态光电化学响应 | 第24-26页 |
| ·暂态光电化学响应 | 第26-27页 |
| ·光电流暂态响应的现存分析方法 | 第27-32页 |
| ·化学反应控制法 | 第28页 |
| ·载流子积累 | 第28-29页 |
| ·等效电路拟合法 | 第29-31页 |
| ·其他方法 | 第31-32页 |
| ·金属氧化膜的电子结构 | 第32-38页 |
| ·半导体氧化膜的电子结构 | 第32-35页 |
| ·纯Fe和纯Cr表而氧化膜的电子结构 | 第35-36页 |
| ·不锈钢表面钝化膜/氧化膜的电子结构 | 第36-38页 |
| ·课题研究目的与内容 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第2章 光电流响应数学模型 | 第40-56页 |
| ·半导体电极的光电化学响应 | 第40-42页 |
| ·金属/半导体/溶液体系 | 第42-46页 |
| ·金属与半导体的接触 | 第42-43页 |
| ·半导体A/半导体B界面 | 第43-45页 |
| ·氧化膜半导体/溶液界面 | 第45-46页 |
| ·光电流产生机制 | 第46-47页 |
| ·光电流响应模型 | 第47-51页 |
| ·假设条件 | 第47-48页 |
| ·载流子浓度连续性方程的建立 | 第48-50页 |
| ·光电流暂态响应数学模型的建立 | 第50-51页 |
| ·光电流响应的影响因素 | 第51-54页 |
| ·外加电压 | 第51-54页 |
| ·入射波长及光强的影响 | 第54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第3章 不锈钢氧化膜光电流响应测试方法 | 第56-62页 |
| ·实验材料 | 第56-57页 |
| ·实验溶液 | 第57页 |
| ·实验仪器 | 第57页 |
| ·光电流响应测定方法 | 第57-59页 |
| ·光强分布测定 | 第59-61页 |
| ·光强测定池 | 第60-61页 |
| ·I_(in)和I_(out)的测定方法 | 第61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第4章 高温水中不锈钢氧化膜光电流响应测试 | 第62-76页 |
| ·实验 | 第63页 |
| ·动电位扫描 | 第63-64页 |
| ·Mott-Schottky分析 | 第64-67页 |
| ·光电流响应测试 | 第67-74页 |
| ·光电流稳态响应J_(PCSR)测试 | 第69-70页 |
| ·光电流暂态响应J_(PCTR)测试结果 | 第70-72页 |
| ·光电流响应峰效应J_(sp)测试结果 | 第72-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第5章 光电流响应数值模拟 | 第76-86页 |
| ·光电流响应模式解析 | 第76-79页 |
| ·光电流响应数值模拟 | 第79-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第6章 锌离子对不锈钢氧化膜光电流响应的影响 | 第86-105页 |
| ·实验 | 第87页 |
| ·结果与讨论 | 第87-96页 |
| ·稳态光电流响应J_(PCSR)测试 | 第89-92页 |
| ·光电流暂态响应J_(PCTR)测试 | 第92-95页 |
| ·光电流响应峰效应J_(sp) | 第95-96页 |
| ·数值模拟 | 第96-102页 |
| ·光电流响应模式模拟 | 第96-100页 |
| ·光电流响应数值模拟 | 第100-102页 |
| ·本章小结 | 第102-105页 |
| 第7章 总结与展望 | 第105-110页 |
| ·结论 | 第105-108页 |
| ·创造性成果 | 第108-109页 |
| ·展望 | 第109-110页 |
| 参考文献 | 第110-120页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第120-121页 |
| 攻读博士学位期间参加的科研工作 | 第121-122页 |
| 致谢 | 第122-123页 |
| 作者简介 | 第123页 |
