| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 致谢 | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1 铜及其合金的防护 | 第12-22页 |
| ·铜及其合金防护的意义 | 第12-13页 |
| ·铜及其合金的腐蚀行为 | 第13-15页 |
| ·铜及其合金的腐蚀类型 | 第13-14页 |
| ·黄铜脱锌腐蚀的现象、特征及影响因素 | 第14页 |
| ·黄铜脱锌腐蚀的机理及研究进展 | 第14-15页 |
| ·铜及其合金的腐蚀防护 | 第15-22页 |
| ·有机化合物类缓蚀剂 | 第16-20页 |
| ·无机盐类缓蚀剂 | 第20-21页 |
| ·天然类缓蚀剂 | 第21-22页 |
| 2 植酸简介及研究现状 | 第22-24页 |
| ·植酸分子结构 | 第22-23页 |
| ·植酸的生产工艺 | 第23页 |
| ·植酸的性质和应用 | 第23-24页 |
| ·植酸的性质 | 第23页 |
| ·植酸的应用 | 第23-24页 |
| 3 本选题的意义及研究思路 | 第24-26页 |
| ·本选题意义 | 第24-25页 |
| ·本选题研究思路 | 第25-26页 |
| 第二章 实验方法 | 第26-33页 |
| 1 实验方法简介 | 第26-28页 |
| ·循环伏安法 | 第26页 |
| ·电化学阻抗谱 | 第26-27页 |
| ·紫外可见薄层光谱电化学方法 | 第27-28页 |
| ·光谱电化学方法 | 第27页 |
| ·紫外可见薄层光谱电化学方法 | 第27-28页 |
| ·循环伏吸法 | 第28页 |
| 2 薄层光谱电化学池的制作与表征 | 第28-32页 |
| ·薄层光谱电化学池的结构 | 第28-30页 |
| ·薄层光谱电化学池中三电极的制备 | 第30-31页 |
| ·薄层光谱电化学池的表征 | 第31-32页 |
| 3 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 碱性条件下植酸钠对黄铜缓蚀条件的电化学研究 | 第33-55页 |
| 1 引言 | 第33页 |
| 2 实验部分 | 第33-54页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第33-34页 |
| ·电化学实验中黄铜圆盘电极的制备 | 第34-35页 |
| ·碱性介质 NaOH 浓度的确定 | 第35-41页 |
| ·溶液配制 | 第35-36页 |
| ·电极的打磨和预处理方式 | 第36页 |
| ·实验步骤 | 第36-37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-41页 |
| ·Na_(12)IP_6浓度的确定 | 第41-44页 |
| ·溶液配制 | 第41页 |
| ·电极预处理及实验步骤 | 第41-42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-44页 |
| ·黄铜循环伏安曲线的分析 | 第44-45页 |
| ·SEM 考察黄铜电极表面形貌 | 第45-50页 |
| ·用于 SEM 检测黄铜电极的制作 | 第45-46页 |
| ·溶液配制 | 第46页 |
| ·实验步骤 | 第46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-50页 |
| ·电化学阻抗谱法研究黄铜电极表面氧化膜的电化学性质 | 第50-54页 |
| 3 本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 碱性条件下植酸钠对黄铜缓蚀的光谱电化学研究 | 第55-67页 |
| 1 引言 | 第55页 |
| 2 实验部分 | 第55-57页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第55页 |
| ·实验装置图 | 第55-56页 |
| ·溶液的配制 | 第56页 |
| ·薄层光谱电化学池的制作和工作电极的制备 | 第56页 |
| ·实验步骤 | 第56-57页 |
| 3 结果与讨论 | 第57-66页 |
| ·原位可见紫外光谱图 | 第57-63页 |
| ·CVA 和 DCVA 图谱分析 | 第63-66页 |
| 4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 全文总结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-79页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第79-81页 |
