中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
目录 | 第7-10页 |
第1章 绪论 | 第10-24页 |
·引言 | 第10页 |
·纳米材料概述及分类 | 第10-18页 |
·纳米材料的研究进展及概述 | 第10-13页 |
·纳米材料的分类 | 第13-14页 |
·二维纳米材料概述及研究进展 | 第14页 |
·二维纳米材料的合成方法的概述 | 第14-18页 |
·无机金属及金属氧化物纳米材料的概述 | 第18-22页 |
·无机金属及金属氧化物纳米材料的发展概况 | 第18-19页 |
·特殊形貌的无机金属及金属氧化物纳米材料 | 第19-20页 |
·无机金属及金属氧化物纳米材料的应用 | 第20-22页 |
·磁学性能 | 第20-21页 |
·甲酸电氧化 | 第21页 |
·电化学分析 | 第21-22页 |
·课题来源 | 第22页 |
·本课题研究内容 | 第22-24页 |
第2章 实验材料和表征方法 | 第24-29页 |
·实验试剂 | 第24-25页 |
·实验仪器 | 第25页 |
·表征方法 | 第25-27页 |
·广角 X 射线粉末衍射(XRD) | 第25页 |
·拉曼光谱(Raman spectroscopy) | 第25-26页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第26页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第26页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第26页 |
·热重分析仪(TG‐DSC) | 第26页 |
·傅立叶变换红外光谱(FT‐IR) | 第26页 |
·N_2吸附‐脱附等温线的测定(BET) | 第26-27页 |
·X 射线吸收精细结构谱(XAFS) | 第27页 |
·性能测试 | 第27-29页 |
·磁性测试 | 第27页 |
·电化学测试 | 第27-29页 |
·工作电极的制备 | 第27页 |
·四氧化三钴的电催化性能的测试 | 第27-28页 |
·甲酸电氧化的电催化性能的测试 | 第28-29页 |
第3章 界面导向法合成钴金属单质薄片及磁学性能的研究 | 第29-46页 |
·引言 | 第29-30页 |
·实验部分 | 第30-31页 |
·钴离子的相转移 | 第30页 |
·基于界面导向作用合成二维钴单质薄片 | 第30-31页 |
·二维钴单质薄片的焙烧 | 第31页 |
·结果分析与讨论 | 第31-45页 |
·相转移钴离子的物理表征 | 第31-32页 |
·二维钴单质薄片的物理表征 | 第32-38页 |
·反应温度对纳米薄片形貌的影响 | 第38-40页 |
·二维钴单质薄片的形成过程的示意图 | 第40-42页 |
·二维钴单质薄片的磁学性能分析 | 第42-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第4章 界面导向法合成金属氧化物薄片及电化学性能的研究 | 第46-59页 |
·引言 | 第46-47页 |
·实验部分 | 第47-48页 |
·铁、钴、镍离子的相转移 | 第47-48页 |
·铁离子的相转移 | 第47页 |
·钴离子的相转移 | 第47页 |
·镍离子的相转移 | 第47-48页 |
·界面导向作用合成二维钴过渡金属铁、钴、镍的氧化物纳米薄片 | 第48页 |
·界面导向法合成铁的氧化物的纳米薄片 | 第48页 |
·界面导向法合成钴的氧化物的纳米薄片 | 第48页 |
·界面导向法合成镍的氧化物的纳米薄片 | 第48页 |
·结果分析与讨论 | 第48-57页 |
·相转移铁、钴、镍离子的物理表征 | 第48-49页 |
·钴氧化物纳米薄片的物理表征 | 第49-53页 |
·Co_3O_4纳米薄片电化学性能的研究 | 第53-56页 |
·二维过渡金属铁、镍的氧化物纳米薄片的物理表征 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-59页 |
第5章 界面导向法合成钯金属单质薄片及其甲醇氧化性能的研究 | 第59-66页 |
·引言 | 第59-60页 |
·实验部分 | 第60页 |
·钯离子的相转移 | 第60页 |
·界面导向作用合成二维钯单质薄片 | 第60页 |
·结果分析与讨论 | 第60-64页 |
·钯粒子相转移的物理表征 | 第60-61页 |
·二维钯单质薄片的物理表征 | 第61-63页 |
·二维钯单质薄片的电催化性能研究 | 第63-64页 |
·本章小结 | 第64-66页 |
结论 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-76页 |
致谢 | 第76-77页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及申请的专利情况 | 第77页 |