中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
目录 | 第6-9页 |
第1章 绪论 | 第9-24页 |
·介孔分子筛催化剂 | 第9-10页 |
·概述 | 第9页 |
·介孔分子筛的分类 | 第9-10页 |
·钴修饰介孔材料的研究现状 | 第10-15页 |
·Co-MCM-41 介孔材料 | 第11-13页 |
·Co-SBA-15 介孔材料 | 第13-14页 |
·其他钴修饰的介孔材料 | 第14-15页 |
·金属修饰SBA-16 介孔分子筛的合成 | 第15-17页 |
·一些催化反应的研究现状 | 第17-23页 |
·苯羟化制苯酚 | 第17-18页 |
·环己烷氧化 | 第18-20页 |
·一氧化碳氧化 | 第20-23页 |
·本论文的研究内容 | 第23-24页 |
第2章 实验部分 | 第24-31页 |
·实验原料与试剂 | 第24-25页 |
·实验仪器与装置 | 第25页 |
·催化剂的制备 | 第25-27页 |
·蒸发诱导自组装法制备Co-SBA-16 催化剂 | 第25-26页 |
·SBA-16 载体的制备 | 第26页 |
·pH调节法制备Co/SBA-16 催化剂 | 第26-27页 |
·负载法制备的Co/SBA-16 催化剂 | 第27页 |
·一步法合成Co-SBA-16 催化剂 | 第27页 |
·催化剂的表征 | 第27-29页 |
·X射线衍射(XRD) | 第27页 |
·N_2吸附-脱附等温线 | 第27-28页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第28页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第28页 |
·电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES) | 第28页 |
·XRF | 第28页 |
·傅里叶红外光谱 | 第28页 |
·紫外可见漫反射光谱(UV-vis) | 第28页 |
·激光拉曼光谱(Raman) | 第28-29页 |
·H_2程序升温还原(H_2-TPR) | 第29页 |
·X射线光电子能谱(XPS) | 第29页 |
·O2-TPD | 第29页 |
·苯羟化反应性能评价 | 第29-30页 |
·环已烷选择氧化反应性能评价 | 第30页 |
·一氧化碳氧化性能评价 | 第30-31页 |
第3章 蒸发诱导自组装法合成Co-SBA-16 材料及其催化苯羟化 | 第31-51页 |
·蒸发诱导自组装法合成CS-n材料的结构表征 | 第31-35页 |
·小角XRD表征 | 第31-32页 |
·N_2吸附-脱附表征 | 第32-34页 |
·透射电镜表征 | 第34-35页 |
·蒸发诱导自组装法合成CS-n材料的物种表征 | 第35-43页 |
·广角XRD表征 | 第35-36页 |
·FT-IR表征 | 第36-37页 |
·DRUV-Vis表征 | 第37-38页 |
·Ramam表征 | 第38-39页 |
·XPS表征 | 第39-40页 |
·H2-TPR表征 | 第40-43页 |
·CS-n材料的形成机理猜想 | 第43页 |
·催化苯羟基化反应性能研究 | 第43-46页 |
·Co/Si对催化性能的影响 | 第43-44页 |
·不同材料对催化性能的影响 | 第44-46页 |
·反应条件对苯羟基化反应性能影响 | 第46-50页 |
·溶剂的影响 | 第46-47页 |
·催化剂用量的影响 | 第47-48页 |
·反应时间的影响 | 第48页 |
·反应温度的影响 | 第48-49页 |
·催化剂的循环使用 | 第49-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
第4章 pH调节法合成Co/SBA-16 及其催化性能 | 第51-66页 |
·C/S-n材料的结构表征 | 第51-55页 |
·小角XRD表征 | 第51-52页 |
·N_2吸附-脱附等温线 | 第52-54页 |
·TEM表征 | 第54-55页 |
·C/S-n材料的物种表征 | 第55-59页 |
·广角XRD表征 | 第55页 |
·FT-IR表征 | 第55-56页 |
·DRUV-vis表征 | 第56页 |
·Ramam表征 | 第56-58页 |
·H_2-TPR表征 | 第58-59页 |
·C/S-n催化环己烷选择氧化性能 | 第59-64页 |
·不同钴含量的影响 | 第59-61页 |
·反应时间的影响 | 第61-62页 |
·反应温度的影响 | 第62-63页 |
·反应压力的影响 | 第63页 |
·叔丁基过氧化氢的作用 | 第63-64页 |
·本章小结 | 第64-66页 |
第5章 直接水热法合成Co-SBA-16 及其催化CO氧化 | 第66-83页 |
·CS-OA-m材料的结构表征 | 第66-69页 |
·N_2吸附-脱附曲线表征 | 第66-68页 |
·SEM表征 | 第68页 |
·TEM表征 | 第68-69页 |
·CS-OA-m材料的物种表征 | 第69-73页 |
·广角XRD表征 | 第69-70页 |
·FT-IR表征 | 第70-71页 |
·DRUV-vis表征 | 第71-72页 |
·H_2-TPR表征 | 第72-73页 |
·催化一氧化碳氧化性能 | 第73-82页 |
·预处理条件的影响 | 第73-77页 |
·不同钴含量CS-OA-m材料的活性 | 第77页 |
·反应气体空速的影响 | 第77-78页 |
·稳定性实验 | 第78-79页 |
·寿命实验 | 第79-80页 |
·合成方法的影响 | 第80-82页 |
·本章小结 | 第82-83页 |
第6章 结论 | 第83-84页 |
参考文献 | 第84-93页 |
致谢 | 第93-94页 |
攻读学位期间发表的学术论文和专利 | 第94页 |