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基于仿生结构的锡抛光垫抛光机理的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 绪论第10-20页
   ·研究背景第10-13页
   ·化学机械抛光(CMP)现状第13-18页
     ·CMP 技术原理第13-14页
     ·CMP 发展趋势及前景第14-15页
     ·CMP 材料去除率模型第15-16页
     ·CMP 抛光垫作用机理第16-18页
   ·本课题研究的意义第18-19页
   ·研究目标及内容第19页
     ·研究目标第19页
     ·研究内容第19页
   ·课题来源第19-20页
第2章 锡仿生结构抛光垫模型的提出第20-30页
   ·植物叶序的概念第20-22页
     ·植物叶序与斐波那契数第20-21页
     ·植物叶序角的提出第21-22页
   ·植物中的向日葵模型第22-23页
   ·锡仿生结构抛光垫的设计第23-26页
     ·基于 Vogel 方程的葵花籽粒分布第23-24页
     ·叶序角对籽粒块分布的影响第24-25页
     ·叶序参数对籽粒块分布的影响第25-26页
     ·磨料块直径对籽粒分布的影响第26页
   ·锡仿生结构抛光垫三维模型的建立第26-28页
   ·本章小结第28-30页
第3章 锡仿生结构抛光垫抛光的接触压力场仿真第30-42页
   ·接触问题的有限元分析方法第30-31页
     ·有限元计算与分析第30页
     ·晶片研磨及抛光一些条件假设第30-31页
   ·基于“WINKLER地基”理论接触力学模型的建立第31-33页
   ·有限元计算结果与分析第33-41页
     ·有限元计算的基本问题与已知条件第33页
     ·有限元实体模型的建立第33-34页
     ·有限元网格划分及边界条件第34页
     ·锡仿生结构抛光垫与晶片接触压力场计算与分析第34-41页
   ·本章小结第41-42页
第4章 锡仿生结构抛光垫制备与特性研究第42-55页
   ·锡仿生结构抛光垫材料的选用第42-43页
     ·锡膏的选用及使用第42-43页
     ·抛光垫基层材料的选用第43页
   ·锡仿生结构抛光垫的模具及印刷工艺第43-48页
     ·网版的选择第44-45页
     ·刮板的选择第45-47页
     ·印刷工作平台第47页
     ·锡仿生结构抛光垫的印刷工艺第47-48页
   ·锡仿生结构抛光垫的焊接固化第48-52页
     ·SMT 焊接参考标准第48-51页
     ·SMT 回流焊的使用第51-52页
   ·锡仿生结构抛光垫的特征第52-54页
   ·本章小结第54-55页
第5章 锡仿生结构抛光垫抛光实验研究第55-68页
   ·实验装置与实验材料第55-56页
   ·实验目标及步骤第56-58页
     ·实验目标第56-57页
     ·实验步骤第57-58页
   ·锡仿生结构抛光垫的修整及晶片粘结、清洗第58-59页
   ·叶序参数、磨料块直径及压强对材料去除分布的影响第59-62页
     ·叶序参数对晶片表面平面精度的影响第59-60页
     ·磨料块直径对晶片表面平面精度的影响第60-61页
     ·压强对晶片表面平面精度的影响第61-62页
     ·结果讨论与分析第62页
   ·叶序参数、磨料块直径及压强对材料去除率的影响第62-64页
     ·叶序参数对晶片材料去除率的影响第62-63页
     ·磨料块直径对晶片材料去除率的影响第63-64页
     ·压强对晶片材料去除率的影响第64页
     ·结果讨论与分析第64页
   ·叶序参数、磨料块直径及压强对粗糙度的影响第64-67页
     ·叶序参数对晶片表面粗糙度的影响第65页
     ·磨料块直径对晶片表面粗糙度的影响第65-66页
     ·压强对晶片表面粗糙度的影响第66页
     ·结果讨论与分析第66-67页
   ·本章小结第67-68页
第6章 结论与展望第68-70页
   ·结论第68-69页
   ·展望第69-70页
参考文献第70-75页
在学期间的研究成果及发表的学术论文第75-76页
致谢第76-77页

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