| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·ZnMgO 薄膜材料的研究进展 | 第12-14页 |
| ·ZnMgO 薄膜的制备方法 | 第14-19页 |
| ·磁控溅射法 | 第14-15页 |
| ·水热合成法 | 第15-16页 |
| ·分子束外延法 | 第16页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第16-18页 |
| ·金属有机化学气相沉积法 | 第18页 |
| ·溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第18页 |
| ·喷雾热解法 | 第18页 |
| ·微乳液法 | 第18-19页 |
| ·ZnMgO 的特性及应用 | 第19-22页 |
| ·Zn1-xMgxO 的基本特性 | 第19-21页 |
| ·Zn1-xMgxO 薄膜的应用 | 第21-22页 |
| ·论文的选题依据及研究的主要内容 | 第22-24页 |
| 第二章 实验方案的设计与研究方法 | 第24-32页 |
| ·实验主要原料及工艺 | 第24页 |
| ·实验的主要原料 | 第24页 |
| ·实验工艺流程 | 第24页 |
| ·实验所需的测试仪器 | 第24-32页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第25-26页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第26-27页 |
| ·能谱仪 | 第27-28页 |
| ·红外吸收光谱仪 | 第28-29页 |
| ·荧光光谱仪 | 第29-32页 |
| 第三章 生长温度对 PLD 法制备 ZnMgO 薄膜特性的影响 | 第32-40页 |
| ·实验方法 | 第32-33页 |
| ·靶材与薄膜样品的制备 | 第32-33页 |
| ·样品的表征 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-39页 |
| ·样品的结构特性 | 第33-36页 |
| ·样品的光学特性 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 退火温度对 ZnMgO 薄膜的结构和光学特性的影响 | 第40-48页 |
| ·实验 | 第40-41页 |
| ·实验结果讨论 | 第41-46页 |
| ·结构特性 | 第41-44页 |
| ·光学特性 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第五章 RF 磁控溅射法制备的 ZnMgO 薄膜的特性研究 | 第48-58页 |
| ·射频(RF)磁控溅射简介 | 第48-50页 |
| ·射频磁控溅射制备的 ZnMgO 薄膜受退火温度的影响 | 第50-53页 |
| ·靶材与薄膜样品的制备 | 第50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-53页 |
| ·小结 | 第53页 |
| ·射频磁控溅射制备的 ZnMgO 薄膜特性受退火时间的影响 | 第53-58页 |
| ·实验步骤 | 第53-54页 |
| ·结果与分析 | 第54-56页 |
| ·小结 | 第56-58页 |
| 第六章 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 附录 | 第68-69页 |
| 一、在校期间发表的学术论文 | 第68页 |
| 二、在校期间参加的项目 | 第68页 |
| 三、在校期间获奖情况 | 第68-69页 |
