摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-20页 |
·MEMS的研究 | 第10-12页 |
·MEMS的研究背景 | 第10页 |
·MEMS的应用 | 第10-11页 |
·压电双晶片在MEMS上的应用 | 第11-12页 |
·TiAl合金的研究 | 第12-14页 |
·TiAl合金的研究背景 | 第12页 |
·TiAl合金的研究进展 | 第12-13页 |
·TiAl基合金的应用 | 第13-14页 |
·纳米薄膜材料的研究 | 第14-18页 |
·纳米薄膜材料的研究背景 | 第14-15页 |
·纳米薄膜的分类 | 第15-16页 |
·纳米薄膜材料的制备技术及应用 | 第16-18页 |
·本文研究的内容和意义 | 第18-20页 |
第2章 分子动力学研究方法 | 第20-32页 |
·分子动力学研究的历史背景 | 第20-21页 |
·分子动力学(Molecular Dynamics,MD)的基本原理 | 第21-25页 |
·基本原理 | 第21-22页 |
·Gear预报—校正算法 | 第22-23页 |
·速度标定 | 第23-24页 |
·边界条件 | 第24页 |
·初始条件 | 第24-25页 |
·时间步长的选择 | 第25页 |
·原子间相互作用势 | 第25-28页 |
·两体势 | 第26页 |
·多体势 | 第26-28页 |
·嵌入原子方法(Embedded Atom Method,EAM) | 第28页 |
·计算机模拟研究方法 | 第28-32页 |
·原子平均内能 | 第28页 |
·对分布函数(Pair Distribution Function,PDF) | 第28-29页 |
·Honeycutt-Anderson键型指数分析 | 第29-32页 |
第3章 急冷温度对TiAl合金薄膜形成的影响 | 第32-44页 |
·急冷过程中温度对TiAl合金薄膜结构变化的影响 | 第32-38页 |
·引言 | 第32页 |
·初始结构与模拟过程 | 第32-33页 |
·模拟结果与讨论 | 第33-38页 |
·连续降温过程中温度对TiAl合金薄膜影响的分子动力学研究 | 第38-43页 |
·初始结构与模拟过程 | 第38-39页 |
·模拟结果与讨论 | 第39-43页 |
·小结 | 第43-44页 |
第4章 快速冷却过程中薄膜厚度对局域结构的影响 | 第44-56页 |
·初始结构与模拟过程 | 第44-46页 |
·模拟结果与讨论 | 第46-53页 |
·原子平均能量 | 第46-47页 |
·对分布函数 | 第47-50页 |
·键对分析技术 | 第50-53页 |
·小结 | 第53-56页 |
第5章 结论 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-64页 |
致谢 | 第64页 |