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同步辐射Sagittal聚焦双晶单色技术研究

中文摘要第1-7页
英文摘要第7-9页
第一章 概论第9-34页
 第一节 国内外同步辐射发展状况第9-19页
 第二节 单色器国内外发展现状及弧矢聚焦双晶单色器的特点第19-34页
第二章 弧矢聚焦双晶单色器的基本原理第34-45页
 第一节 弧矢聚焦双晶单色器单色化原理第34-35页
 第二节 弧矢聚焦双晶单色器聚焦原理第35-37页
 第三节 弧矢聚焦双晶单色器物像距理论推导第37-39页
 第四节 弧矢聚焦双晶单色器主要性能指标分析第39-41页
 第五节 弧矢聚焦双晶单色器的传输效率第41-45页
第三章 弧矢聚焦双晶单色器的结构原理第45-66页
 第一节 弧矢聚焦双晶单色器的结构原理第45-49页
 第二节 单色器出射光与入射光高差固定研究第49-54页
 第三节 双晶尺寸的确定第54-56页
 第四节 结构安装精度对出射入射光高差偏差的影响第56-59页
 第五节 弧矢聚焦双晶单色器性能的提高第59-66页
第四章 弧矢聚焦晶体的压弯第66-89页
 第一节 各向异性矩形晶体的压弯分析第66-68页
 第二节 弧矢聚焦晶体的压弯原理第68-72页
 第三节 弧矢聚焦晶体鞍型形变的抑制第72-74页
 第四节 柔性铰链运动方程的理论分析第74-80页
 第五节 压弯机构的运动理论分析第80-84页
 第六节 压弯晶体衍射面面形有限元分析第84-89页
第五章 平面晶体的冷却第89-98页
 第一节 高热负载对第一晶体衍射面的影响第89-93页
 第二节 第一晶体的冷却性能分析第93-98页
第六章 弧矢聚焦双晶单色器的计算机控制第98-110页
 第一节 弧矢聚焦双晶单色器控制原理第98-99页
 第二节 弧矢聚焦双晶单色器控制运算第99-102页
 第三节 弧矢聚焦双晶单色器控制实现第102-110页
  附第四节 弧矢聚焦双晶单色器控制元器件选择及装调第106-110页
第七章 弧矢聚焦双晶单色器测试结果第110-124页
 第一节 Bragg转角系统的检测第110-113页
 第二节 双晶微调系统调节精度的检测第113-116页
 第三节 弧矢聚焦双晶单色器聚焦效果的检测第116-117页
 第四节 X射线测绘技术对晶体表面面形误差的评估方法第117-118页
 第五节 X射线测量晶体压弯半径第118-120页
 第六节 压弯晶体聚焦效果检测第120-124页
第八章 研究项目的总结与展望第124-128页
 第一节 本篇论文的主要研究工作及创新点第124-125页
 第二节 研究课题的发展趋势展望第125-128页
攻博其间发表论文目录第128-130页
致谢第130-131页

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