中文摘要 | 第1-7页 |
英文摘要 | 第7-9页 |
第一章 概论 | 第9-34页 |
第一节 国内外同步辐射发展状况 | 第9-19页 |
第二节 单色器国内外发展现状及弧矢聚焦双晶单色器的特点 | 第19-34页 |
第二章 弧矢聚焦双晶单色器的基本原理 | 第34-45页 |
第一节 弧矢聚焦双晶单色器单色化原理 | 第34-35页 |
第二节 弧矢聚焦双晶单色器聚焦原理 | 第35-37页 |
第三节 弧矢聚焦双晶单色器物像距理论推导 | 第37-39页 |
第四节 弧矢聚焦双晶单色器主要性能指标分析 | 第39-41页 |
第五节 弧矢聚焦双晶单色器的传输效率 | 第41-45页 |
第三章 弧矢聚焦双晶单色器的结构原理 | 第45-66页 |
第一节 弧矢聚焦双晶单色器的结构原理 | 第45-49页 |
第二节 单色器出射光与入射光高差固定研究 | 第49-54页 |
第三节 双晶尺寸的确定 | 第54-56页 |
第四节 结构安装精度对出射入射光高差偏差的影响 | 第56-59页 |
第五节 弧矢聚焦双晶单色器性能的提高 | 第59-66页 |
第四章 弧矢聚焦晶体的压弯 | 第66-89页 |
第一节 各向异性矩形晶体的压弯分析 | 第66-68页 |
第二节 弧矢聚焦晶体的压弯原理 | 第68-72页 |
第三节 弧矢聚焦晶体鞍型形变的抑制 | 第72-74页 |
第四节 柔性铰链运动方程的理论分析 | 第74-80页 |
第五节 压弯机构的运动理论分析 | 第80-84页 |
第六节 压弯晶体衍射面面形有限元分析 | 第84-89页 |
第五章 平面晶体的冷却 | 第89-98页 |
第一节 高热负载对第一晶体衍射面的影响 | 第89-93页 |
第二节 第一晶体的冷却性能分析 | 第93-98页 |
第六章 弧矢聚焦双晶单色器的计算机控制 | 第98-110页 |
第一节 弧矢聚焦双晶单色器控制原理 | 第98-99页 |
第二节 弧矢聚焦双晶单色器控制运算 | 第99-102页 |
第三节 弧矢聚焦双晶单色器控制实现 | 第102-110页 |
附第四节 弧矢聚焦双晶单色器控制元器件选择及装调 | 第106-110页 |
第七章 弧矢聚焦双晶单色器测试结果 | 第110-124页 |
第一节 Bragg转角系统的检测 | 第110-113页 |
第二节 双晶微调系统调节精度的检测 | 第113-116页 |
第三节 弧矢聚焦双晶单色器聚焦效果的检测 | 第116-117页 |
第四节 X射线测绘技术对晶体表面面形误差的评估方法 | 第117-118页 |
第五节 X射线测量晶体压弯半径 | 第118-120页 |
第六节 压弯晶体聚焦效果检测 | 第120-124页 |
第八章 研究项目的总结与展望 | 第124-128页 |
第一节 本篇论文的主要研究工作及创新点 | 第124-125页 |
第二节 研究课题的发展趋势展望 | 第125-128页 |
攻博其间发表论文目录 | 第128-130页 |
致谢 | 第130-131页 |