CVD金刚石膜化学机械抛光液的研制
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-23页 |
| ·研究背景 | 第9-10页 |
| ·金刚石膜抛光的研究现状 | 第10-21页 |
| ·金刚石的性质 | 第10-12页 |
| ·CVD金刚石膜的制备 | 第12-13页 |
| ·CVD金刚石膜的抛光技术 | 第13-21页 |
| ·课题来源、学术思想及预期达到的效果 | 第21-22页 |
| ·主要研究内容 | 第22-23页 |
| 2 抛光液配制方案设计 | 第23-38页 |
| ·影响金刚石膜CMP抛光质量的因素分析 | 第23-25页 |
| ·配制方法规划 | 第25-27页 |
| ·抛光液性能评价指标 | 第27-28页 |
| ·材料去除率 | 第27页 |
| ·表面粗糙度 | 第27-28页 |
| ·试验检测设备与材料 | 第28-33页 |
| ·试验检测设备 | 第28-32页 |
| ·试验材料 | 第32-33页 |
| ·抛光试验装置与金刚石膜的粘结方案 | 第33-37页 |
| ·抛光试验装置 | 第33-35页 |
| ·金刚石膜的粘结要求 | 第35-36页 |
| ·金刚石膜的粘结方案设计 | 第36-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 3 抛光液主要成分选择 | 第38-56页 |
| ·CVD金刚石膜的预处理 | 第38-39页 |
| ·氧化剂的选择 | 第39-43页 |
| ·氧化剂在金刚石膜CMP抛光液中的作用 | 第39页 |
| ·试验条件与安排 | 第39-41页 |
| ·试验结果与分析 | 第41-43页 |
| ·添加剂的选择 | 第43-45页 |
| ·试验条件及安排 | 第43-44页 |
| ·试验结果与分析 | 第44-45页 |
| ·添加剂浓度的选择 | 第45-47页 |
| ·试验条件及安排 | 第45-46页 |
| ·试验结果与分析 | 第46-47页 |
| ·磨料的选择 | 第47-55页 |
| ·磨料硬度的选择 | 第47-50页 |
| ·磨料粒径的选择 | 第50-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 4 抛光盘材料的选择与抛光工艺研究 | 第56-70页 |
| ·抛光盘的选择 | 第56-59页 |
| ·试验条件及安排 | 第56-57页 |
| ·试验结果与分析 | 第57-59页 |
| ·抛光工艺研究 | 第59-65页 |
| ·试验方案设计 | 第59-60页 |
| ·正交试验安排 | 第60-62页 |
| ·正交试验结果分析 | 第62-65页 |
| ·表面质量分析 | 第65-69页 |
| ·表面形貌分析 | 第65-66页 |
| ·表面成分分析 | 第66-69页 |
| ·小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
