| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·类金刚石薄膜概述 | 第8-17页 |
| ·类金刚石薄膜的组成和分类 | 第8-9页 |
| ·类金刚石薄膜的制备 | 第9-12页 |
| ·类金刚石薄膜的表征 | 第12-14页 |
| ·类金刚石薄膜的性能 | 第14-15页 |
| ·类金刚石薄膜的应用 | 第15-17页 |
| ·本论文的研究工作 | 第17-20页 |
| ·选题的意义 | 第17页 |
| ·硬盘的结构 | 第17-18页 |
| ·实验设计和 DLC 薄膜制备方法的选择 | 第18-20页 |
| 第二章 磁过滤阴极弧法制备 DLC 薄膜 | 第20-30页 |
| ·磁过滤阴极弧简介 | 第20-25页 |
| ·阴极弧简介 | 第20页 |
| ·阴极弧工作的原理 | 第20-21页 |
| ·宏观离子过滤装置 | 第21-23页 |
| ·磁过滤阴极弧(FCVA)沉积的特点 | 第23-25页 |
| ·实验设计及数据分析 | 第25-30页 |
| ·有机薄膜的制备 | 第25-26页 |
| ·DLC 薄膜的制备及其特性分析 | 第26-30页 |
| 第三章 微波电子回旋共振等离子体沉积法制备 DLC 薄膜 | 第30-40页 |
| ·微波电子回旋共振等离子体沉积方法简介 | 第30-34页 |
| ·微波电子回旋共振等离子体源的特点 | 第30-31页 |
| ·微波电子回旋共振等离子体的基本原理 | 第31-32页 |
| ·MW-ECRCVD 等离子体技术在材料科学中的应用 | 第32-34页 |
| ·本研究所用仪器简要说明 | 第34-36页 |
| ·微波源系统组成及技术指标 | 第34-35页 |
| ·微波源工作原理 | 第35-36页 |
| ·DLC 薄膜的制备 | 第36-40页 |
| ·有机薄膜的制备 | 第36-37页 |
| ·DLC 薄膜的制备 | 第37-40页 |
| 第四章 DLC 薄膜的结构和性质分析 | 第40-48页 |
| ·薄膜的沉积速率 | 第40页 |
| ·DLC 薄膜的化学结构表征 | 第40-45页 |
| ·DLC 薄膜的 Raman 分析 | 第40-43页 |
| ·DLC 薄膜的 XPS 分析 | 第43-45页 |
| ·DLC 薄膜的摩擦学特性 | 第45-48页 |
| 第五章 添加有机过渡层后的 DLC 薄膜的结构和性质分析 | 第48-55页 |
| ·薄膜的化学组分表征 | 第48-50页 |
| ·C1s 谱分析 | 第48-49页 |
| ·Si2p 谱分析 | 第49-50页 |
| ·薄膜的表面形貌表征 | 第50-51页 |
| ·薄膜的摩擦学性能 | 第51-52页 |
| ·薄膜的硬度测试 | 第52-55页 |
| 第六章 总结与展望 | 第55-57页 |
| ·总结 | 第55页 |
| ·展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
