| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-25页 |
| ·ECIS过程 | 第12-14页 |
| ·电控离子分离膜 | 第14-15页 |
| ·NiHCF膜的制备 | 第15-16页 |
| ·NiHCF膜的电化学行为 | 第16-18页 |
| 1.S NiHCF膜的应用 | 第18-19页 |
| ·本论文的研究目的和意义 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-25页 |
| 第二章 实验部分 | 第25-32页 |
| ·试剂与仪器 | 第25-26页 |
| ·NiHCF膜的制备方法 | 第26-27页 |
| ·电极预处理 | 第26页 |
| ·电沉积法 | 第26页 |
| ·化学沉积法 | 第26-27页 |
| ·分析测试方法 | 第27-30页 |
| ·循环伏安法 | 第27-28页 |
| ·计时库仑法 | 第28页 |
| ·电化学交流阻抗谱 | 第28-29页 |
| ·X射线能谱分析(EDS) | 第29页 |
| ·离子色谱分析 | 第29-30页 |
| ·NiHCF膜Cs~+选择性实验 | 第30-32页 |
| 第三章 石墨基体NiHCF薄膜的电控离子分离性能 | 第32-43页 |
| ·NiHCF膜的制备 | 第33-36页 |
| ·NiHCF薄膜的制备 | 第33-35页 |
| ·NiHCF薄膜的SEM图及EDS谱 | 第35-36页 |
| ·NiHCF薄膜的电化学行为 | 第36-37页 |
| ·NiHCF薄膜的离子选择性 | 第37-38页 |
| ·NiHCF薄膜的电化学再生 | 第38-39页 |
| ·NiHCF薄膜的寿命 | 第39-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-43页 |
| 第四章 多排石墨芯电沉积NiHCF薄膜的电控离子分离性能研究 | 第43-54页 |
| ·NiHCF膜的制备 | 第43-47页 |
| ·NiHCF薄膜的制备 | 第43-45页 |
| ·NiHCF薄膜的SEM图及EDS谱 | 第45-47页 |
| ·NiHCF薄膜的电化学行为 | 第47-48页 |
| ·NiHCF薄膜的离子选择性 | 第48页 |
| ·NiHCF薄膜的电化学再生 | 第48-49页 |
| ·NiHCF薄膜的寿命 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 第五章 多排石墨芯电沉积NiHCF膜电极传递特征初探 | 第54-65页 |
| ·NiHCF薄膜表面活性面积 | 第54-56页 |
| ·NiHCF薄膜表面扩散系数 | 第56-59页 |
| ·NiHCF薄膜电化学阻抗谱分析 | 第59-62页 |
| ·图谱分析 | 第60-61页 |
| ·等效电路分析 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 第六章 多排石墨芯NiHCF膜电极Cs~+分离应用的初步探讨 | 第65-81页 |
| ·初始浓度对Cs~+分离效果的影响 | 第65-68页 |
| ·外加电压对Cs~+分离效果的影响 | 第68-70页 |
| ·膜表面状态对Cs~+分离效果的影响 | 第70-73页 |
| ·再生过程对Cs~+分离效果的影响 | 第73-75页 |
| ·液体流动速度对Cs~+分离效果的影响 | 第75-77页 |
| ·小结 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-81页 |
| 结论与建议 | 第81-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第85页 |
