摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第1章 文献综述 | 第10-29页 |
·贵金属铱(Ir)的物理化学性质 | 第10-11页 |
·贵金属铱(Ir)基催化剂的研究现状 | 第11-16页 |
·贵金属铱(Ir)基催化剂的制备方法 | 第11-14页 |
·贵金属铱(Ir)基催化剂的应用 | 第14-16页 |
·贵金属铱(Ir)催化剂的改性 | 第16页 |
·氨催化分解的研究现状 | 第16-20页 |
·氨催化分解的应用前景 | 第16-17页 |
·氨催化分解的催化剂体系 | 第17-18页 |
·氨催化分解的反应动力学 | 第18-20页 |
·氨催化分解催化剂体系研究进展 | 第20-28页 |
·活性组分 | 第20-22页 |
·载体 | 第22-24页 |
·助剂 | 第24-27页 |
·杂离子的影响 | 第27-28页 |
·课题背景及主要内容 | 第28-29页 |
第2章 实验部分 | 第29-36页 |
·实验仪器及试剂 | 第29-30页 |
·实验仪器 | 第29页 |
·实验气体 | 第29-30页 |
·化学试剂 | 第30页 |
·实验方法 | 第30-36页 |
·催化剂的制备 | 第30-31页 |
·催化剂的活性评价 | 第31-32页 |
·计算方法 | 第32-33页 |
·程序升温还原(TPR) | 第33-34页 |
·程序升温脱附(TPD) | 第34页 |
·还原耗氢量的计算 | 第34-35页 |
·催化剂BET表征 | 第35-36页 |
第3章 制备条件对铱(Ir)基催化剂性能的影响 | 第36-48页 |
·引言 | 第36页 |
·结果与讨论 | 第36-47页 |
·溶剂对催化剂性能的影响 | 第36-39页 |
·载体对催化剂性能的影响 | 第39-41页 |
·焙烧温度对催化剂性能的影响 | 第41-43页 |
·还原温度对催化剂性能的影响 | 第43-44页 |
·焙烧气氛对催化剂性能的影响 | 第44-46页 |
·催化剂的TPD表征 | 第46-47页 |
·小结 | 第47-48页 |
第4章 钡修饰Ir/SiO_2催化剂对氨分解促进作用的研究 | 第48-59页 |
·前言 | 第48页 |
·催化剂的制备 | 第48-50页 |
·催化剂的活性评价 | 第49页 |
·催化剂的表征 | 第49-50页 |
·结果与讨论 | 第50-57页 |
·助剂对催化活性的影响 | 第50页 |
·催化剂的H_2-TPR表征 | 第50-51页 |
·Ba含量对催化剂性能的影响 | 第51-53页 |
·催化剂的耗氢量的定量计算 | 第53-55页 |
·催化剂的H_2-TPD表征 | 第55-56页 |
·还原温度对催化性能的影响 | 第56页 |
·催化剂稳定性的考察结果 | 第56-57页 |
·小结 | 第57-59页 |
第5章 等离子体处理对Ir-Ni/SiO_2催化剂性能的影响 | 第59-67页 |
·引言 | 第59页 |
·催化剂的制备 | 第59-60页 |
·结果与讨论 | 第60-66页 |
·贵金属Ir的添加对Ni/SiO_2催化剂性能的影响 | 第60-61页 |
·等离子处理对Ni/SiO_2催化剂性能的影响 | 第61-63页 |
·等离子处理对Ir-Ni/SiO_2催化剂性能的影响 | 第63-64页 |
·等离子处理引入方式对催化剂性能的影响 | 第64-66页 |
·小结 | 第66-67页 |
第6章 碱金属助剂对Ir/SiO_2催化剂性能的影响 | 第67-75页 |
·引言 | 第67页 |
·催化剂的制备 | 第67-68页 |
·结果与讨论 | 第68-74页 |
·碱金属助剂的添加对Ir/SiO_2催化剂性能的影响 | 第68-69页 |
·溶剂对碱金属修饰的Ir/SiO_2催化剂性能的影响 | 第69-71页 |
·催化剂性能的TPR表征 | 第71-72页 |
·K含量对Ir/SiO_2催化剂性能的影响 | 第72-73页 |
·K修饰的Ir/SiO_2催化剂的稳定性 | 第73-74页 |
·小结 | 第74-75页 |
第7章 结论及建议 | 第75-78页 |
·结论 | 第75-76页 |
·进一步工作建议 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-85页 |
攻读硕士学位期间论文发表及获奖情况 | 第85-87页 |
致谢 | 第87页 |