触变成形AZ91D镁合金表面预处理、电参数对微弧氧化膜的影响及化学镀工艺的研究
摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-26页 |
·镁及镁合金的特点、应用和表面处理现状 | 第10-14页 |
·镁合金的特点 | 第10页 |
·镁合金的应用 | 第10-11页 |
·镁合金的触变成形 | 第11-12页 |
·镁及镁合金的表面处理现状 | 第12-14页 |
·微弧氧化概述 | 第14-20页 |
·微弧氧化技术的发展与研究现状 | 第15-16页 |
·微弧氧化机理 | 第16-17页 |
·膜层的制备方法 | 第17-18页 |
·影响膜层制备的因素 | 第18-19页 |
·目前存在的问题 | 第19-20页 |
·化学镀技术 | 第20-25页 |
·化学镀技术的历史与现状 | 第21-22页 |
·化学镀镍过程的影响因素 | 第22-25页 |
·本文的研究内容 | 第25-26页 |
第二章 表面预处理对微弧氧化过程和膜层的影响 | 第26-32页 |
·实验方法 | 第26-27页 |
·实验结果与讨论 | 第27-30页 |
·微弧氧化初期的膜层形态 | 第27-28页 |
·化学预处理对微弧氧化膜层性能的影响 | 第28-30页 |
·小结 | 第30-32页 |
第三章 电压对微弧氧化过程和膜层性能的影响 | 第32-46页 |
·实验方法 | 第32-33页 |
·实验过程 | 第32页 |
·检测方法 | 第32-33页 |
·实验结果与讨论 | 第33-44页 |
·初始电压实验 | 第33-43页 |
·手动加压实验结果与分析 | 第43-44页 |
·小结 | 第44-46页 |
第四章 分段加压对微弧氧化膜层的影响 | 第46-52页 |
·实验方法 | 第46-47页 |
·实验结果与分析 | 第47-51页 |
·膜层厚度 | 第47页 |
·结合力 | 第47-48页 |
·粗糙度 | 第48页 |
·膜层的XRD相组成分析 | 第48-50页 |
·腐蚀速率 | 第50-51页 |
·小结 | 第51-52页 |
第五章 微弧氧化膜层表面化学镀覆镍磷合金工艺研究 | 第52-69页 |
·实验材料、方法与方案 | 第52-55页 |
·实验基本操作步骤 | 第52-54页 |
·实验、检测设备 | 第54页 |
·实验方案 | 第54-55页 |
·实验现象、结果与分析 | 第55-66页 |
·敏化、活化后的微弧氧化膜层 | 第55-56页 |
·镀液成分的影响 | 第56-60页 |
·镀液成分加入次序的影响 | 第60-62页 |
·镀液使用次数的影响 | 第62-63页 |
·沉积时间的影响 | 第63-64页 |
·镀层的结合力、表面粗糙度与显微硬度 | 第64-65页 |
·镀层的相组成分析 | 第65-66页 |
·小结 | 第66-69页 |
结论 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-76页 |
致谢 | 第76-77页 |
附录 | 第77页 |