光纤光栅相位掩模的设计及其制作
| 中 文 摘 要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-13页 |
| ·光纤光栅掩模的研究意义及其在国内外的研究动向 | 第9页 |
| ·离子束刻蚀应用及国内外研究现状 | 第9-11页 |
| ·本课题研究工作 | 第11-13页 |
| 第二章 线性啁啾光纤光栅掩模的理论设计 | 第13-20页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·线性啁啾掩模的理论设计 | 第13-18页 |
| ·线性啁啾相位掩模的理论设计方法 | 第13-15页 |
| ·设计结果 | 第15-18页 |
| ·线性啁啾光刻胶掩模的制备及其检测 | 第18-19页 |
| ·本章结论 | 第19-20页 |
| 第三章 光纤光栅相位掩模衍射特性 | 第20-29页 |
| ·严格耦合波理论 | 第20-22页 |
| ·光纤光栅相位掩模的衍射特性分析 | 第22-27页 |
| ·衍射效率与槽形深度之间的关系 | 第23-25页 |
| ·衍射效率与占宽比之间的关系 | 第25-26页 |
| ·衍射效率与光栅周期变化之间的关系 | 第26-27页 |
| ·本章结论 | 第27-29页 |
| 第四章 离子束刻蚀技术及光学材料刻蚀特性研究 | 第29-49页 |
| ·离子束刻蚀技术简介 | 第29-37页 |
| ·离子束刻蚀分类 | 第29-30页 |
| ·离子源技术 | 第30-32页 |
| ·离子束刻蚀常见效应 | 第32-35页 |
| ·离子束刻蚀主要工艺参数 | 第35-37页 |
| ·石英、光刻胶和铬的刻蚀特性研究 | 第37-48页 |
| ·实验步骤 | 第37-38页 |
| ·Ar 离子束刻蚀石英、光刻胶和铬特性研究 | 第38-44页 |
| ·CHF3 气体刻蚀石英、光刻胶和铬特性研究 | 第44-48页 |
| ·本章结论 | 第48-49页 |
| 第五章 光纤光栅掩模的全息制作及离子束刻蚀 | 第49-66页 |
| ·微米结构的离子束刻蚀演化过程 | 第49-56页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·线段运动算法 | 第50-52页 |
| ·程序流程与关键因素 | 第52-53页 |
| ·程序验证 | 第53-54页 |
| ·光纤光栅掩模的刻蚀槽形演化实验 | 第54-56页 |
| ·光纤光栅相位掩模的刻蚀 | 第56-62页 |
| ·光纤光栅相位掩模的制作方案 | 第56-58页 |
| ·光刻胶掩模的制作 | 第58-60页 |
| ·光纤光栅相位掩模的刻蚀 | 第60-62页 |
| ·光纤光栅相位掩模的衍射效率的测量 | 第62-64页 |
| ·实验装置 | 第62-63页 |
| ·实验步骤 | 第63页 |
| ·实验结果 | 第63-64页 |
| ·本章结论 | 第64-66页 |
| 总结与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
