摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
目录 | 第7-10页 |
1 引言 | 第10-20页 |
1.1 研究的目的及意义 | 第10-11页 |
1.2 国内外研究现状 | 第11-14页 |
1.3 本论文的主要内容 | 第14-15页 |
1.4 残余应力测试方法 | 第15-20页 |
2 热处理残余应力的实验研究与测试分析 | 第20-52页 |
2.1 淬火残余应力的实验研究 | 第21-26页 |
2.1.1 水淬基片残余应力分析 | 第21-24页 |
2.1.2 油淬基片残余应力分析 | 第24-26页 |
2.1.3 圆锯片基片淬火残余应力分布特点小结 | 第26页 |
2.2 回火残余应力的实验研究 | 第26-38页 |
2.2.1 回火时间与残余应力 | 第27-35页 |
2.2.2 回火温度与残余应力 | 第35-37页 |
2.2.3 回火冷却方式与残余应力 | 第37-38页 |
2.2.4 圆锯片基片回火残余应力特点小结 | 第38页 |
2.3 热处理残余应力的半高宽描述 | 第38-45页 |
2.3.1 X射线衍射中半高宽的物理意义 | 第39-40页 |
2.3.2 半高宽与回火残余应力 | 第40-45页 |
2.4 国产圆锯片残余应力状态的测定与分析 | 第45-50页 |
2.4.1 国产圆锯片用原材料残余应力状态 | 第46页 |
2.4.2 国产圆锯片淬火残余应力状态 | 第46-49页 |
2.4.3 国产圆锯片回火残余应力状态 | 第49-50页 |
2.5 本章总结 | 第50-52页 |
3 磨削残余应力研究 | 第52-71页 |
3.1 磨削表面残余应力产生的原因和特征 | 第52-58页 |
3.1.1 磨削加工及其特点 | 第52-53页 |
3.1.2 切削加工残余应力的产生及特点 | 第53-55页 |
3.1.3 磨削加工残余应力的产生及特点 | 第55-56页 |
3.1.4 磨削残余应力的X射线检测及特点 | 第56-58页 |
3.2 磨削加工及基片磨削残余应力的分布特点 | 第58-68页 |
3.2.1 基片热处理基础上磨削残余应力的分布特点 | 第58-63页 |
3.2.2 磨削工艺对残余应力分布的影响 | 第63-67页 |
3.2.3 基片表面抛光工艺残余应力分布特点 | 第67-68页 |
3.3 半高宽与加工状态 | 第68-69页 |
3.4 本章总结 | 第69-71页 |
4 辊压适张工艺残余应力研究 | 第71-113页 |
4.1 MY基片辊压适张工艺研究 | 第71-84页 |
4.1.1 基片固有频率测定与分析 | 第72页 |
4.1.2 基片表面残余应力测定与分析 | 第72-80页 |
4.1.3 基片表面残余应力沿厚度方向分布的测定与分析 | 第80-83页 |
4.1.4 MY基片小结 | 第83-84页 |
4.2 WZ基片辊压适张工艺研究 | 第84-96页 |
4.2.1 基片表面残余应力测定与分析 | 第84-93页 |
4.2.2 基片表面残余应力沿厚度方向分布的测定与分析 | 第93-96页 |
4.2.3 WZ基片小结 | 第96页 |
4.3 MY和 WZ基片的对比分析与适张效果评价 | 第96-106页 |
4.3.1 MY和 WZ基片的对比分析 | 第96-101页 |
4.3.2 适张效果评价 | 第101-106页 |
4.4 GY基片辊压适张磨削工艺效果分析 | 第106-109页 |
4.5 半高宽与基片加工状态 | 第109-111页 |
4.6 本章总结 | 第111-113页 |
5 圆锯片辊压适张残余应力的有限元分析 | 第113-138页 |
5.1 圆锯片辊压适张应力状态理论计算研究概况 | 第113-115页 |
5.2 圆锯片常用基材65 Mn钢薄板平面应变压缩实验 | 第115-124页 |
5.2.1 加工硬化曲线与材料应变硬化指数 | 第115-116页 |
5.2.2 材料与实验方法 | 第116-123页 |
5.2.3 65Mn钢硬化指数的意义 | 第123-124页 |
5.3 圆锯片辊压适张处理的有限元分析 | 第124-136页 |
5.3.1 接触区间的确定 | 第125-127页 |
5.3.2 有限元分析计算 | 第127-128页 |
5.3.3 应力状态分析及讨论 | 第128-134页 |
5.3.4 基片辊压适张变形效果分析及讨论 | 第134-136页 |
5.4 总结 | 第136-138页 |
6 结论 | 第138-140页 |
参考文献 | 第140-146页 |
个人简介 | 第146-147页 |
导师简介 | 第147-148页 |
在读博士期间发表的论文、专著 | 第148-149页 |
致谢 | 第149页 |