| 致谢 | 第1-4页 |
| 内容提要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| 1．1 散射介质中偏光传输的研究意义 | 第8-10页 |
| 1．2 组织光学中偏光传输的研究进展 | 第10-11页 |
| 1．3 后向散射偏振光的研究意义 | 第11-13页 |
| 1．4 本论文完成的主要工作 | 第13-14页 |
| 第二章 偏振光散射理论基础 | 第14-26页 |
| 2．1 光的偏振概念 | 第14-15页 |
| 2．2 偏振态的 Stokes矢量描述 | 第15-16页 |
| 2．3 偏振态的传输 | 第16-19页 |
| 2．3．1 Mueller矩阵表述 | 第16-17页 |
| 2．3．2 媒质分界面上的反射与透射Mueller矩阵 | 第17-18页 |
| 2．3．3 常见偏光器件的Mueller矩阵 | 第18-19页 |
| 2．4 偏振光的散射理论 | 第19-25页 |
| 2．4．1 球形粒子的散射场 | 第19-23页 |
| 2．4．2 球形粒子的散射Mueller矩阵 | 第23-24页 |
| 2．4．3 单次散射Mueller 矩阵随角度的分布特性 | 第24-25页 |
| 2．5 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 偏光传输的MONTE CARLO模拟 | 第26-38页 |
| 3．1 光子传输规则简述 | 第26-27页 |
| 3．2 光子传输过程 | 第27-33页 |
| 3．3 葡萄糖对偏光传输的影响 | 第33页 |
| 3．4 初步模拟结果与讨论 | 第33-36页 |
| 3．4．1 不同入射光状态的比较 | 第34-36页 |
| 3．4．2 不同散射系数的比较 | 第36页 |
| 3．5 本章小结 | 第36-38页 |
| 第四章 利用后向散射 MUELLER矩阵进行介质特性识别 | 第38-60页 |
| 4．1 后向散射 Mueller矩阵与介质特性的关系-MC模拟结果 | 第38-51页 |
| 4．1．1 散射系数对后向散射Mueller矩阵的影响 | 第38-41页 |
| 4．1．2 吸收系数对后向散射Mueller矩阵的影响 | 第41-42页 |
| 4．1．3 散射介质的分层特性对后向散射Mueller矩阵的影响 | 第42-46页 |
| 4．1．4 散射介质中的隐藏物体对后向散射Mueller矩阵的影响 | 第46-48页 |
| 4．1．5 葡萄糖对后向散射Mueller矩阵的影响 | 第48-51页 |
| 4．2 后向散射 Mueller矩阵的实验测量 | 第51-57页 |
| 4．2．1 测量方法简介 | 第51-53页 |
| 4．2．2 散射介质后向散射Mueller矩阵的实验测量方案 | 第53-57页 |
| 4．3 实验结果 | 第57-59页 |
| 4．3．1 不同Intralipid浓度的后向散射Mueller矩阵 | 第57-58页 |
| 4．3．2 不同隐藏物体 | 第58-59页 |
| 4．4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 结束语 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 附录 在学期间发表的论文 | 第66-67页 |
| 中文摘要 | 第67-68页 |
