镁合金微弧氧化及氧化膜上化学镀镍的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-24页 |
| ·镁及其合金概述 | 第12-13页 |
| ·镁合金表面处理研究现状 | 第13-16页 |
| ·化学转化处理 | 第13页 |
| ·阳极氧化 | 第13-14页 |
| ·金属涂层 | 第14-15页 |
| ·激光处理 | 第15页 |
| ·其他表面处理技术 | 第15-16页 |
| ·镁合金微弧氧化技术 | 第16-19页 |
| ·微弧氧化技术的特点及应用前景 | 第16-18页 |
| ·镁合金微弧氧化的研究进展 | 第18-19页 |
| ·镁合金微弧氧化目前存在的问题 | 第19页 |
| ·镁合金化学镀Ni 技术 | 第19-22页 |
| ·镁合金化学镀Ni 技术的应用前景 | 第19-20页 |
| ·镁合金化学镀Ni 技术的研究进展 | 第20-21页 |
| ·微弧氧化膜化学镀Ni 技术的特点 | 第21-22页 |
| ·镁合金微弧氧化膜化学镀Ni 目前存在的问题 | 第22页 |
| ·本课题研究的内容 | 第22-24页 |
| 第2章 AZ91D 镁合金微弧氧化电解液的研究 | 第24-48页 |
| ·前言 | 第24页 |
| ·微弧氧化技术原理 | 第24-26页 |
| ·实验 | 第26-29页 |
| ·实验材料、药品和设备 | 第26页 |
| ·微弧氧化工艺流程 | 第26-27页 |
| ·实验内容 | 第27-28页 |
| ·微弧氧化陶瓷层性能测试 | 第28-29页 |
| ·结果与结论 | 第29-40页 |
| ·基础电解液的研究与分析 | 第29-31页 |
| ·添加剂的研究与分析 | 第31-33页 |
| ·电解液体系正交优化的研究 | 第33-40页 |
| ·实验结果综合分析 | 第40-47页 |
| ·陶瓷层生长规律分析 | 第40-43页 |
| ·添加剂对微弧氧化电压的影响 | 第43页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜腐蚀过程分析 | 第43-45页 |
| ·陶瓷膜层电化学性能分析 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第3章 微弧氧化膜上化学镀镍工艺的研究 | 第48-69页 |
| ·前言 | 第48页 |
| ·微弧氧化膜化学镀Ni 技术的原理 | 第48-50页 |
| ·敏化的原理 | 第48-49页 |
| ·离子钯活化的原理 | 第49页 |
| ·非金属表面化学镀镍的原理 | 第49-50页 |
| ·实验 | 第50-58页 |
| ·实验材料、药品和设备 | 第50-51页 |
| ·微弧氧化膜化学镀镍的工艺流程 | 第51页 |
| ·微弧氧化膜化学镀镍的前处理 | 第51-52页 |
| ·实验内容 | 第52-55页 |
| ·化学镀镍液中主盐与还原剂浓度的监控 | 第55-57页 |
| ·镀层性能检测 | 第57-58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-68页 |
| ·微弧氧化膜碱性化学镀镍工艺的研究 | 第58-61页 |
| ·微弧氧化膜酸性化学镀镍工艺的研究 | 第61-65页 |
| ·化学镀镍溶液成分的监控 | 第65-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第4章 微弧氧化膜上化学镀镍层的性能研究 | 第69-82页 |
| ·前言 | 第69页 |
| ·实验所用的处理工艺 | 第69-70页 |
| ·镀层性能检测方法 | 第70页 |
| ·镀层性能主要检测仪器与方法 | 第70页 |
| ·孔隙率的测试 | 第70页 |
| ·化学镀镍沉积速度的测定 | 第70页 |
| ·化学镀液稳定性的评价 | 第70页 |
| ·性能评价分析与结果 | 第70-80页 |
| ·微弧氧化膜活化表面分析 | 第70-71页 |
| ·微弧氧化膜化学镀镍层的形貌 | 第71-73页 |
| ·化学镀镍层的成分与相结构 | 第73-74页 |
| ·化学镀Ni 层的孔隙率 | 第74-75页 |
| ·化学镀镍层的显微硬度 | 第75-77页 |
| ·微弧氧化膜化学镀Ni 层的耐蚀性 | 第77-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 结论 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-91页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
| 详细摘要 | 第93-100页 |
