| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-21页 |
| ·电磁屏蔽原理 | 第9-11页 |
| ·电磁屏蔽的类型 | 第9-10页 |
| ·屏蔽效能 | 第10-11页 |
| ·薄膜的电磁屏蔽 | 第11页 |
| ·电磁屏蔽玻璃的分类 | 第11-18页 |
| ·薄膜型电磁屏蔽玻璃 | 第12-17页 |
| ·网络结构型电磁屏蔽玻璃 | 第17-18页 |
| ·电磁屏蔽玻璃的国内外研究现状 | 第18-20页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第20-21页 |
| 第2章 电磁屏蔽多层膜的选择与设计 | 第21-32页 |
| ·电磁屏蔽多层膜的选择 | 第21-24页 |
| ·金属膜层的选择 | 第21-23页 |
| ·介质膜层的选择 | 第23-24页 |
| ·电磁屏蔽多层膜的光学设计 | 第24-32页 |
| ·三层膜系(ZnO/Ag/ZnO)最佳AZO膜厚度的确定 | 第24-28页 |
| ·五层膜系(ZnO/Ag/ZnO/Ag/AZO)最佳AZO膜厚度的确定 | 第28-30页 |
| ·银膜的光学厚度对膜系透射率的影响 | 第30-32页 |
| 第3章 电磁屏蔽多层薄膜的制备及测试 | 第32-39页 |
| ·实验装置和材料 | 第32页 |
| ·实验装置 | 第32页 |
| ·实验材料 | 第32页 |
| ·试样的制备 | 第32-33页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第32-33页 |
| ·多层薄膜的制备过程 | 第33页 |
| ·实验工艺条件 | 第33页 |
| ·分析测试方法 | 第33-39页 |
| ·光学性能测试 | 第33-34页 |
| ·中红外反射率测试 | 第34页 |
| ·薄膜成分的测试 | 第34页 |
| ·薄膜厚度的测试 | 第34页 |
| ·电学性能的测试 | 第34-35页 |
| ·薄膜表面形貌的测试 | 第35页 |
| ·电磁屏蔽效能的测试 | 第35-39页 |
| 第4章 实验结果及分析讨论 | 第39-52页 |
| ·不同厚度银膜的光学和电学性能 | 第39-42页 |
| ·AZO薄膜对Ag膜电学及光学性能的影响 | 第42-44页 |
| ·AZO/Ag/AZO多层膜的电学、光学性质和电磁屏蔽效能 | 第44-52页 |
| 第5章 银纳米薄膜在室温大气条件下氧化性的研究 | 第52-64页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·光学和电学性能的变化 | 第52-54页 |
| ·表面成分的变化 | 第54-59页 |
| ·表面形貌的变化 | 第59-61页 |
| ·薄膜氧化过程和机理分析 | 第61-62页 |
| ·AZO/Ag/AZO的抗氧化性能 | 第62-64页 |
| 第6章 结论 | 第64-65页 |
| 第7章 展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 读研究生期间发表的论文 | 第71页 |
