| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-25页 |
| ·表面技术的重要性及分类 | 第8-9页 |
| ·表面技术的重要性 | 第8页 |
| ·表面技术的分类 | 第8-9页 |
| ·气相沉积技术 | 第9-14页 |
| ·CVD 涂层强化技术 | 第10-11页 |
| ·PVD 涂层强化技术 | 第11-12页 |
| ·PCVD 涂层强化技术介绍 | 第12-14页 |
| ·离子氮化 | 第14-16页 |
| ·离子氮化理论 | 第15页 |
| ·离子渗氮的主要特点 | 第15-16页 |
| ·离子氮化与PCVD 复合处理 | 第16-21页 |
| ·复合处理技术的设计思想 | 第16-18页 |
| ·复合方法的选择 | 第18页 |
| ·复合处理膜基组织结构 | 第18-20页 |
| ·复合涂层结合力 | 第20-21页 |
| ·复合涂层的磨损特性 | 第21页 |
| ·TICN 膜的研究进展 | 第21-23页 |
| ·本研究的内容及意义 | 第23-24页 |
| ·本研究的内容 | 第23-24页 |
| ·本研究的意义 | 第24页 |
| ·本实验执行的基本路线 | 第24-25页 |
| 第二章 实验设备及方法 | 第25-32页 |
| ·实验材料 | 第25-26页 |
| ·涂层基体的选择 | 第25页 |
| ·钛源的选择 | 第25-26页 |
| ·实验前基体材料的预处理 | 第26-27页 |
| ·表面吸附层和表面氧化层 | 第27页 |
| ·表面净化处理 | 第27页 |
| ·喷砂处理 | 第27页 |
| ·镀膜设备 | 第27-28页 |
| ·实验流程 | 第28-29页 |
| ·辉光清洗原理及作用 | 第28页 |
| ·复合处理沉积TiCN 膜结构示意图 | 第28-29页 |
| ·PN+PCVD 复合处理工艺设计 | 第29页 |
| ·性能的测定 | 第29-32页 |
| ·硬度的检测 | 第29-30页 |
| ·结合力的测定 | 第30页 |
| ·表面形貌、显微结构的观测及薄膜的物相分析 | 第30页 |
| ·耐磨性的检测 | 第30-32页 |
| 第三章 PN+PCVD 复合处理的工艺研究 | 第32-44页 |
| ·离子氮化过程中不同氮氢比对氮化层组织的影响 | 第32-34页 |
| ·离子氮化后PCVD 沉积TiCN 的工艺研究 | 第34-41页 |
| ·正交试验 | 第34-35页 |
| ·正交试验结果 | 第35页 |
| ·正交试验结果分析 | 第35-39页 |
| ·沉积工艺的优化 | 第39页 |
| ·氢氮比的影响 | 第39-40页 |
| ·沉积温度的影响 | 第40-41页 |
| ·最佳工艺下制备的TiCN 薄膜的形貌观察及物相分析 | 第41-43页 |
| ·本章结论 | 第43-44页 |
| 第四章 PN+PCVD 复合处理沉积TICN 复合涂层的性能研究 | 第44-51页 |
| ·截面硬度梯度比较 | 第44-45页 |
| ·结合强度性能比较 | 第45-47页 |
| ·划痕试验及结果 | 第45-47页 |
| ·结果分析 | 第47页 |
| ·TiCN 梯度膜的耐磨性能 | 第47-49页 |
| ·耐磨试验结果 | 第47-49页 |
| ·分析讨论 | 第49页 |
| ·本章结论 | 第49-51页 |
| 第五章 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 附录 | 第56页 |