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硬盘磁头多元复合表面的超精密抛光机理研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-12页
第一章 绪论第12-35页
   ·GMR硬盘磁头及其特点第12-17页
     ·硬盘存储技术及磁头的发展历程第12-15页
     ·GMR硬盘磁头多元复合表面的特点第15-17页
   ·GMR硬盘磁头抛光机理的研究现状第17-25页
     ·GMR硬盘磁头加工制造的基本过程第17-19页
     ·GMR硬盘磁头抛光的研究现状第19-25页
   ·超精密抛光普遍机理的研究现状第25-32页
     ·超精密抛光技术概述第25页
     ·机械抛光金属等延性材料去除机理的研究第25-27页
     ·机械抛光陶瓷等硬脆材料去除机理第27-29页
     ·分子动力学在机械抛光机理研究中的应用及其局限性第29-30页
     ·其它能量用于超精密抛光的研究第30-32页
   ·课题来源与研究目的及意义第32-33页
   ·本文主要研究内容第33-35页
第二章 磁头抛光实验机的运动学特性与各主要抛光要素的几何力学性能研究第35-55页
   ·抛光实验机的运动学分析第35-48页
     ·磁头相对于抛光盘的运动轨迹第36-39页
     ·磁头表面的均匀性抛光第39-48页
   ·GMR硬盘磁头表面形貌及力学性能第48-50页
   ·抛光盘表面形貌及力学性能第50-52页
   ·抛光液及磨粒的特性第52-53页
   ·本章小结第53-55页
第三章 四个主要抛光要素相互作用关系的研究第55-80页
   ·硬盘磁头抛光的工艺过程第55-56页
     ·自由磨粒抛光(Lapping)第55页
     ·纳米研磨(Nanogrinding)第55-56页
     ·抛光盘磨粒的嵌入第56页
   ·抛光盘和工件的接触关系研究第56-60页
     ·抛光盘盘面粗糙峰的变形形式第56-57页
     ·工件和盘面真实接触面积的估算第57-59页
     ·磁头抛光过程合适的膜厚比范围第59-60页
   ·抛光液流场和承载力的研究第60-69页
     ·不计盘面粗糙度的抛光液流场分析第60-64页
     ·计入盘面粗糙度的抛光液流场分析第64-68页
     ·抛光液膜的承载力分析第68-69页
   ·磨粒的运动模式和受载分析第69-78页
     ·自由磨粒的运动模式第69-72页
     ·研磨盘的磨粒嵌入工艺第72-76页
     ·磨粒嵌入机理第76-78页
   ·本章小结第78-80页
第四章 亚纳米级光滑表面的形成及PTR的形成与控制第80-100页
   ·磁头自由磨粒抛光材料去除的研究第80-87页
     ·自由磨粒抛光的材料去除方式第80-81页
     ·菱形磨粒抛光的材料去除模型第81-85页
     ·菱形磨粒材料去除模型的分析第85-87页
   ·纳米研磨材料去除的研究第87-93页
     ·纳米研磨的力学特点第87-90页
     ·纳米研磨的材料去除模型第90-93页
   ·磁头表面的极尖沉降第93-95页
     ·磁头抛光中的极尖沉降第93页
     ·极尖沉降的形成机理第93-95页
   ·极尖沉降的控制第95-98页
     ·自由磨粒抛光中抛光参数对PTR的影响第95-97页
     ·PTR的控制和消除第97-98页
   ·本章小结第98-100页
第五章 超声能和化学能在磁头抛光中的应用研究第100-115页
   ·机械抛光的局限性第100-102页
   ·超声波在硬盘磁头抛光中的应用研究第102-107页
     ·超声波对磁头表面PTR影响的实验研究第102-103页
     ·超声波抛光的作用机理研究第103-107页
   ·硬盘磁头化学机械抛光的研究第107-113页
     ·化学机械抛光机理第107-109页
     ·化学机械抛光的实验研究第109-111页
     ·磁头抛光化学机械交互作用的研究第111-113页
   ·本章小结第113-115页
第六章 结论与展望第115-119页
   ·全文总结第115-117页
   ·本文具有创新意义的工作第117页
   ·研究展望第117-119页
参考文献第119-128页
致谢第128-129页
攻读博士学位期间主要的研究成果(发表学术论文情况)第129-130页

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