摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-12页 |
第一章 绪论 | 第12-35页 |
·GMR硬盘磁头及其特点 | 第12-17页 |
·硬盘存储技术及磁头的发展历程 | 第12-15页 |
·GMR硬盘磁头多元复合表面的特点 | 第15-17页 |
·GMR硬盘磁头抛光机理的研究现状 | 第17-25页 |
·GMR硬盘磁头加工制造的基本过程 | 第17-19页 |
·GMR硬盘磁头抛光的研究现状 | 第19-25页 |
·超精密抛光普遍机理的研究现状 | 第25-32页 |
·超精密抛光技术概述 | 第25页 |
·机械抛光金属等延性材料去除机理的研究 | 第25-27页 |
·机械抛光陶瓷等硬脆材料去除机理 | 第27-29页 |
·分子动力学在机械抛光机理研究中的应用及其局限性 | 第29-30页 |
·其它能量用于超精密抛光的研究 | 第30-32页 |
·课题来源与研究目的及意义 | 第32-33页 |
·本文主要研究内容 | 第33-35页 |
第二章 磁头抛光实验机的运动学特性与各主要抛光要素的几何力学性能研究 | 第35-55页 |
·抛光实验机的运动学分析 | 第35-48页 |
·磁头相对于抛光盘的运动轨迹 | 第36-39页 |
·磁头表面的均匀性抛光 | 第39-48页 |
·GMR硬盘磁头表面形貌及力学性能 | 第48-50页 |
·抛光盘表面形貌及力学性能 | 第50-52页 |
·抛光液及磨粒的特性 | 第52-53页 |
·本章小结 | 第53-55页 |
第三章 四个主要抛光要素相互作用关系的研究 | 第55-80页 |
·硬盘磁头抛光的工艺过程 | 第55-56页 |
·自由磨粒抛光(Lapping) | 第55页 |
·纳米研磨(Nanogrinding) | 第55-56页 |
·抛光盘磨粒的嵌入 | 第56页 |
·抛光盘和工件的接触关系研究 | 第56-60页 |
·抛光盘盘面粗糙峰的变形形式 | 第56-57页 |
·工件和盘面真实接触面积的估算 | 第57-59页 |
·磁头抛光过程合适的膜厚比范围 | 第59-60页 |
·抛光液流场和承载力的研究 | 第60-69页 |
·不计盘面粗糙度的抛光液流场分析 | 第60-64页 |
·计入盘面粗糙度的抛光液流场分析 | 第64-68页 |
·抛光液膜的承载力分析 | 第68-69页 |
·磨粒的运动模式和受载分析 | 第69-78页 |
·自由磨粒的运动模式 | 第69-72页 |
·研磨盘的磨粒嵌入工艺 | 第72-76页 |
·磨粒嵌入机理 | 第76-78页 |
·本章小结 | 第78-80页 |
第四章 亚纳米级光滑表面的形成及PTR的形成与控制 | 第80-100页 |
·磁头自由磨粒抛光材料去除的研究 | 第80-87页 |
·自由磨粒抛光的材料去除方式 | 第80-81页 |
·菱形磨粒抛光的材料去除模型 | 第81-85页 |
·菱形磨粒材料去除模型的分析 | 第85-87页 |
·纳米研磨材料去除的研究 | 第87-93页 |
·纳米研磨的力学特点 | 第87-90页 |
·纳米研磨的材料去除模型 | 第90-93页 |
·磁头表面的极尖沉降 | 第93-95页 |
·磁头抛光中的极尖沉降 | 第93页 |
·极尖沉降的形成机理 | 第93-95页 |
·极尖沉降的控制 | 第95-98页 |
·自由磨粒抛光中抛光参数对PTR的影响 | 第95-97页 |
·PTR的控制和消除 | 第97-98页 |
·本章小结 | 第98-100页 |
第五章 超声能和化学能在磁头抛光中的应用研究 | 第100-115页 |
·机械抛光的局限性 | 第100-102页 |
·超声波在硬盘磁头抛光中的应用研究 | 第102-107页 |
·超声波对磁头表面PTR影响的实验研究 | 第102-103页 |
·超声波抛光的作用机理研究 | 第103-107页 |
·硬盘磁头化学机械抛光的研究 | 第107-113页 |
·化学机械抛光机理 | 第107-109页 |
·化学机械抛光的实验研究 | 第109-111页 |
·磁头抛光化学机械交互作用的研究 | 第111-113页 |
·本章小结 | 第113-115页 |
第六章 结论与展望 | 第115-119页 |
·全文总结 | 第115-117页 |
·本文具有创新意义的工作 | 第117页 |
·研究展望 | 第117-119页 |
参考文献 | 第119-128页 |
致谢 | 第128-129页 |
攻读博士学位期间主要的研究成果(发表学术论文情况) | 第129-130页 |