| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-21页 |
| ·脉冲激光烧蚀和脉冲激光沉积 | 第9-12页 |
| ·脉冲激光烧蚀(PLA) | 第9-10页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第10-12页 |
| ·ECR等离子体辅助脉冲激光沉积 | 第12-16页 |
| ·ECR等离子体 | 第12-14页 |
| ·ECR等离子体辅助脉冲激光沉积法 | 第14-15页 |
| ·ECR等离子体辅助脉冲激光沉积装置 | 第15-16页 |
| ·ZnO薄膜性质及掺杂 | 第16-19页 |
| ·ZnO材料 | 第16-19页 |
| ·概述 | 第16-18页 |
| ·ZnO晶体结构 | 第18-19页 |
| ·ZnO薄膜制备方法 | 第19页 |
| ·本文的研究内容和安排 | 第19-21页 |
| 第二章 常温脉冲激光沉积制备ZnO薄膜 | 第21-30页 |
| ·实验目的与意义 | 第21页 |
| ·ZnO的制备 | 第21-22页 |
| ·ZnO薄膜的表征和结果讨论 | 第22-29页 |
| ·原子力显微镜(AFM)观察 | 第22-25页 |
| ·在Si上制备的ZnO薄膜 | 第22-23页 |
| ·在SiO_2/Si上制备的氧化锌薄膜 | 第23-25页 |
| ·高能离子背散射(HEIBS)分析 | 第25-26页 |
| ·紫外可见光透射谱测量 | 第26-27页 |
| ·射线衍射谱(XRD)表征 | 第27-28页 |
| ·拉曼光谱(Raman)分析 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 ECR等离子体辅助脉冲激光沉积ZnO薄膜 | 第30-41页 |
| ·ECR辅助PLD的实验目的与成膜机理 | 第30-31页 |
| ·ECR辅助PLD实验目的 | 第30页 |
| ·ECR辅助脉冲激光沉积成膜机理 | 第30-31页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·膜层的分析表征 | 第32-37页 |
| ·高能离子背散射(HEIBS)分析 | 第32-33页 |
| ·原子力显微镜(AFM)观察 | 第33页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FTIR) | 第33-34页 |
| ·射线衍射谱(XRD)表征 | 第34-35页 |
| ·拉曼光谱(Raman)分析 | 第35-36页 |
| ·紫外可见光透射谱测量 | 第36-37页 |
| ·ECR-PLD成膜的影响因素研究 | 第37-40页 |
| ·脉冲激光能量对于成膜的影响 | 第37-39页 |
| ·不同衬底对于成膜的影响 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 ECR等离子体辅助脉冲激光沉积ZnO:N薄膜 | 第41-49页 |
| ·氧化锌掺杂 | 第41-42页 |
| ·使用ECR辅助PLD实现氮掺杂 | 第42-43页 |
| ·使用ECR辅助脉冲激光的掺氮ZnO薄膜的制备 | 第43-44页 |
| ·膜层的分析表征 | 第44-48页 |
| ·射线衍射谱(XRD)表征 | 第44-46页 |
| ·拉曼光谱(Raman)分析 | 第46-47页 |
| ·紫外可见光透射谱测量 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 总结和展望 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 后记 | 第56-57页 |