| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-27页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·YBCO超导体基本性质 | 第9-12页 |
| ·YBCO的晶体结构 | 第9-11页 |
| ·YBCO超导体的性质 | 第11-12页 |
| ·实用YBCO超导材料 | 第12-18页 |
| ·YBCO单畴大块 | 第12-13页 |
| ·YBCO涂层导体 | 第13-17页 |
| ·YBCO薄膜 | 第17-18页 |
| ·YBCO涂层导体缓冲层 | 第18-21页 |
| ·缓冲层材料的选择 | 第18-19页 |
| ·几种缓冲层材料介绍 | 第19-21页 |
| ·涂层导体缓冲层制备技术 | 第21-24页 |
| ·脉冲激光技术(PLD) | 第21-22页 |
| ·离子束辅助沉积技术(IBAD) | 第22页 |
| ·溅射技术(Sputtering) | 第22页 |
| ·金属-有机物气相沉积技术(MOCVD) | 第22-23页 |
| ·溶胶凝胶技术(Sol-gel) | 第23页 |
| ·其他薄膜制备技术 | 第23-24页 |
| ·涂层导体缓冲层的发展趋势 | 第24-25页 |
| ·本论文的选题依据和研究方案 | 第25-27页 |
| ·选题依据 | 第25页 |
| ·研究方案 | 第25-27页 |
| 第2章 材料制备方法、原理及分析测试手段 | 第27-35页 |
| ·缓冲层薄膜制备方法及原理 | 第27-29页 |
| ·MOD原理 | 第27页 |
| ·MOD工艺 | 第27-29页 |
| ·块材及粉体的制备方法及原理 | 第29页 |
| ·实验所用分析测试方法及原理 | 第29-32页 |
| ·X射线衍射技术(XRD): | 第29-30页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)及能谱(EDS)分析 | 第30-31页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第31页 |
| ·热分析技术 | 第31-32页 |
| ·实验设备及仪器 | 第32-33页 |
| ·实验采用的基片及基片清洗 | 第33页 |
| ·实验采用基片 | 第33页 |
| ·基片的清洗 | 第33页 |
| ·实验采用气氛 | 第33页 |
| ·实验药品 | 第33-35页 |
| 第3章 简单钙钛矿型缓冲层研究 | 第35-47页 |
| ·引言 | 第35-36页 |
| ·实验部分 | 第36-47页 |
| ·前驱体的选择及前驱液的配制 | 第36-38页 |
| ·La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3缓冲层薄膜生长工艺研究 | 第38-45页 |
| ·结论 | 第45-47页 |
| 第4章 复杂钙钛矿型缓冲层研究 | 第47-61页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·试验部分 | 第47-61页 |
| ·固相法制备LNMO块材 | 第47-48页 |
| ·CSD法制备LNMO块材 | 第48-53页 |
| ·CSD法制备NNMO块材 | 第53-56页 |
| ·MOD法制备LNMO、NNMO薄膜 | 第56-59页 |
| ·结论 | 第59-61页 |
| 第5章 结论与展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第73页 |