| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-21页 |
| ·磁记录介质的发展及研究现状 | 第10-12页 |
| ·表征磁记录介质性能的参数 | 第12-13页 |
| ·矫顽力(Hc) | 第12页 |
| ·饱和磁化强度和剩余磁化强度 | 第12-13页 |
| ·交换耦合 | 第13-19页 |
| ·铁磁性和反铁磁性 | 第13页 |
| ·铁磁性-反铁磁性交换耦合 | 第13-16页 |
| ·铁磁性-铁磁性耦合 | 第16-17页 |
| ·Bloch 壁和Néel 壁 | 第17-18页 |
| ·Co 的各向异性 | 第18-19页 |
| ·本论文的研究背景 | 第19-20页 |
| ·本论文的研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 样品的制备及测试方法 | 第21-31页 |
| ·磁控溅射法制备磁性多层膜的基本理论 | 第21-25页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第25-26页 |
| ·样品的制备 | 第26-27页 |
| ·薄膜样品的测试原理 | 第27-30页 |
| ·磁力显微镜(MFM) | 第27-29页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 薄膜的微结构和磁特性研究 | 第31-57页 |
| ·溅射速率标定 | 第31-42页 |
| ·Pt 的溅射速率标定 | 第31-34页 |
| ·Fe 的溅射速率标定 | 第34-37页 |
| ·Co 的溅射速率标定 | 第37-39页 |
| ·NiO 的溅射速率标定 | 第39-42页 |
| ·薄膜结构分析 | 第42-56页 |
| ·Co/Pt 多层膜中磁畴结构与循环周期数 n 的关系 | 第42-49页 |
| ·Co/Pt 多层膜中的磁畴结构与磁场的关系 | 第49-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 作者简介 | 第65页 |