| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 Cu掺杂znO薄膜概述 | 第7-14页 |
| §1.1 引言 | 第7页 |
| §1.2 ZnO纳米薄膜材料的结构和基本性质 | 第7-8页 |
| §1.3 ZnO薄膜掺杂的研究现状 | 第8-9页 |
| §1.4 Cu掺杂ZnO薄膜的性质 | 第9-10页 |
| §1.5 Cu掺杂ZnO薄膜的应用 | 第10页 |
| §1.6 Cu掺杂ZnO薄膜的制备方法 | 第10-12页 |
| §1.7 Cu掺杂ZnO薄膜材料的研究状况与进展 | 第12-14页 |
| 第二章 PLD方法制备Cu掺杂ZnO薄膜 | 第14-21页 |
| §2.1 脉冲激光沉积技术 | 第14-17页 |
| §2.1.1 脉冲激光沉积系统的组成结构 | 第14页 |
| §2.1.2 脉冲激光沉积(PLD)基本原理 | 第14-16页 |
| §2.1.3 PLD技术的特点 | 第16-17页 |
| §2.2 Cu掺杂ZnO薄膜的制备过程和检测 | 第17-21页 |
| §2.2.1 衬底清洗 | 第17-18页 |
| §2.2.2 衬底安装 | 第18页 |
| §2.2.3 镀膜 | 第18页 |
| §2.2.4 薄膜的测量 | 第18-21页 |
| 第三章 生长参数对Cu掺杂ZnO薄膜结构和性质的影响 | 第21-32页 |
| §3.1 引言 | 第21-22页 |
| §3.2 制备Cu掺杂ZnO薄膜的实验过程 | 第22-23页 |
| §3.3 生长参数对Si衬底上Cu掺杂ZnO薄膜的影响 | 第23-27页 |
| §3.3.1 生长温度对Si衬底Cu掺杂ZnO薄膜的影响 | 第23-26页 |
| §3.3.2 退火温度对Si基Cu掺杂ZnO薄膜的影响 | 第26-27页 |
| §3.4 生长参数对玻璃衬底上Cu掺杂ZnO薄膜的影响 | 第27-31页 |
| §3.4.1 生长温度对玻璃衬底的Cu掺杂ZnO薄膜的影响 | 第28-30页 |
| §3.4.2 退火温度对玻璃衬底的Cu掺杂ZnO薄膜的影响 | 第30-31页 |
| §3.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 Cu掺杂ZnO薄膜的研究方向 | 第32-34页 |
| 全文总结 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-43页 |
| 发表的论文 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44页 |
